ટેફલોન ઉચ્ચ-તાપમાન કાપડ ઉત્પાદકો દર્શાવે છે કે ઠંડક દર નિયમન એ સ્ફટિકીયતાને નિયંત્રિત કરવાની સૌથી સીધી અને અસરકારક પદ્ધતિ છે. PTFE સંપૂર્ણપણે 380°C ઉપર ઓગળી જાય પછી, જ્યારે ઠંડક દરમિયાન 310~315°Cની મહત્તમ સ્ફટિકીકરણ દર તાપમાન શ્રેણીમાંથી પસાર થાય છે ત્યારે મોલેક્યુલર ચેઇન્સ ક્રિસ્ટલ જાળીમાં ગોઠવાય છે. ઠંડક દર સ્ફટિક ક્ષેત્રનું પ્રમાણ અને કોટિંગના માઇક્રોસ્કોપિક મોર્ફોલોજીને નિર્ધારિત કરે છે.
1. ઓછી સ્ફટિકીયતા માટે ઝડપી ઠંડક (શમન).
સિન્ટર્ડ કાપડની સપાટી ઠંડા હવાના પડદા, કૂલિંગ રોલર્સ અથવા સામાન્ય-તાપમાનની પાણીની ટાંકીઓ દ્વારા ઝડપથી ઠંડુ થાય છે. પરમાણુ સાંકળો નિયમિત અને સુવ્યવસ્થિત ગોઠવણ પહેલાં સ્થિર થાય છે, જે મોટી સંખ્યામાં નાના અને અપૂર્ણ ક્રિસ્ટલ અનાજ બનાવે છે. મેળવેલા કોટિંગમાં ઓપ્ટિમાઇઝ્ડ નોન-સ્ટીક પ્રદર્શન સાથે સોફ્ટ ટેક્સચર અને ઉત્કૃષ્ટ કઠોરતા છે, જ્યારે તેની કઠિનતા અને વસ્ત્રો પ્રતિકાર થોડો ઓછો થયો છે.
2. ઉચ્ચ સ્ફટિકીયતા માટે ધીમી ઠંડક (એનિલિંગ).
સિન્ટરિંગ ફર્નેસના આઉટલેટ પર હીટ પ્રિઝર્વેશન સેક્શન ગોઠવવામાં આવે છે અથવા કપડાને ભઠ્ઠી સાથે 10~50°C/hના અત્યંત ધીમા દરે ઠંડુ કરવામાં આવે છે. આ પરમાણુ સાંકળોની પૂરતી હિલચાલને મોટા અને સંપૂર્ણ ગોળાકાર બનાવવા માટે પરવાનગી આપે છે. કોટિંગ ઉચ્ચ કઠિનતા, ઉત્કૃષ્ટ વસ્ત્રો પ્રતિકાર અને સ્થિર પરિમાણીય સ્થિરતા ધરાવે છે, તેમ છતાં ઓછી લવચીકતા અને વધેલી બરડપણું સાથે.
II. સહાયક પ્રક્રિયા અને સામગ્રી નિયંત્રણ
કૂલિંગ રેટ રેગ્યુલેશનના આધારે, નીચેના સહાયક પગલાં PTFE કોટિંગની સ્ફટિકીયતાને વધુ સારી બનાવી શકે છે.
1. સિન્ટરિંગ તાપમાન અને હોલ્ડિંગ સમય
સામગ્રીને 380 ~ 400 ° સે સુધી ગરમ કરવી જોઈએ અને મૂળ સ્ફટિકોને સંપૂર્ણપણે ઓગળવા અને થર્મલ ઇતિહાસને દૂર કરવા માટે પૂરતા સમય માટે પકડી રાખવું જોઈએ. અપૂરતું સિન્ટરિંગ અવશેષ સ્ફટિકના મધ્યવર્તી કેન્દ્રને છોડી દેશે, પરિણામે અતિશય ઊંચો અને અસમાન રીતે વિતરિત અંતિમ સ્ફટિકીયતા.
2. સારવાર પછીની એનેલીંગ
ઝડપી ઠંડક દ્વારા મેળવવામાં આવતી ઓછી સ્ફટિકીયતાવાળા કોટિંગ્સ માટે, ગૌણ સ્ફટિક વૃદ્ધિ અને આંતરિક તાણ દૂર કરવા માટે 300~320 °C પર સતત-તાપમાનની સારવાર દ્વારા કેટલાક કલાકો સુધી ધીમી ઠંડક દ્વારા અનુભૂતિ થઈ શકે છે, જે કોટિંગની સ્ફટિકતામાં સાધારણ વધારો કરે છે.
3. કાચો માલ મોલેક્યુલર વજન
ઉચ્ચ-પરમાણુ-વજન પીટીએફઇ વિક્ષેપ ઉચ્ચ મેલ્ટ સ્નિગ્ધતા અને ઓછી મોલેક્યુલર ચેઇન ગતિશીલતા ધરાવે છે, જે ધીમા સ્ફટિકીકરણ દર તરફ દોરી જાય છે. સમાન ઠંડકની સ્થિતિમાં, ઓછી સ્ફટિકીયતા સાથે કોટિંગ્સ તૈયાર કરવાનું સરળ છે.
4. ન્યુક્લિએટિંગ એજન્ટનો ઉમેરો
અકાર્બનિક ફિલર્સ અથવા પરફ્લોરિનેટેડ કોપોલિમર્સનો એક નાનો ડોઝ (0.1%~1%) મોટી સંખ્યામાં વિજાતીય ક્રિસ્ટલ ન્યુક્લી પ્રદાન કરી શકે છે અને ક્રિસ્ટલ અનાજને નોંધપાત્ર રીતે શુદ્ધ કરી શકે છે. જો કે તે એકંદર સ્ફટિકતાને ધરમૂળથી બદલી શકતું નથી, તે અસરકારક રીતે ક્રિસ્ટલ માઇક્રોસ્ટ્રક્ચરને શ્રેષ્ઠ બનાવે છે.
III. મલ્ટિ-લેયર કોટિંગ ઉત્પાદન માટે વ્યાપક વ્યવસ્થાપન
ટેફલોન ઉચ્ચ-તાપમાન કાપડ ધીમે ધીમે સંચિત થર સાથે બહુવિધ ગર્ભાધાન અને સિન્ટરિંગ પ્રક્રિયાઓ દ્વારા ઉત્પન્ન થાય છે, જેમાં નીચે મુજબ લક્ષિત પ્રક્રિયા નિયંત્રણની જરૂર છે.
1. ઇન્ટરલેયર સ્ફટિકીકરણ સુસંગતતા
સ્તરો વચ્ચેના ઠંડક દરમાં અતિશય મોટો તફાવત અસંગત ઇન્ટરલેયર સ્ફટિકીકરણનું કારણ બને છે અને આંતરિક તણાવ પેદા કરે છે, જે ગંભીર કિસ્સાઓમાં પણ કોટિંગની છાલ તરફ દોરી જાય છે. મધ્યવર્તી સ્તરો માટે હળવા ઠંડકને અપનાવવાની ભલામણ કરવામાં આવે છે, અને ઉત્પાદનની જરૂરિયાતો અનુસાર માત્ર બહારના સ્તર માટે લક્ષિત ઝડપી અથવા ધીમી ઠંડકનો અમલ કરવાની ભલામણ કરવામાં આવે છે.
2. કોટિંગ જાડાઈ અસર
જાડા થર સપાટી અને આંતરિક સ્તર વચ્ચે અસુમેળ ઠંડકથી પીડાય છે. ધીમી ગરમીના વિસર્જનને કારણે આંતરિક સ્તર ઉચ્ચ સ્ફટિકીયતા બનાવે છે. એકીકૃત ઠંડક પ્રક્રિયાઓ અમલમાં મૂકતા પહેલા સમગ્ર કોટિંગનું સમાન તાપમાન સુનિશ્ચિત કરવા માટે સિન્ટરિંગનો સમય યોગ્ય રીતે લંબાવવો જરૂરી છે.
3. ઠંડક દરમિયાન તાણ મેચિંગ
ઠંડક વિભાગ દરમિયાન કાપડની સપાટી પર લાગુ પડતા તણાવ પરમાણુ સાંકળોના અભિગમને અસર કરે છે, જે સ્ફટિકીકરણ પ્રક્રિયા સાથે જોડાય છે અને અંતિમ સ્ફટિક આકારવિજ્ઞાન અને પરિમાણીય સ્થિરતા સંયુક્ત રીતે નક્કી કરે છે. સંકલિત અને ચોક્કસ નિયંત્રણ ફરજિયાત છે.
IV. સ્ફટિકીયતાની માત્રાત્મક તપાસ
પ્રક્રિયા ગોઠવણ પછી સ્ફટિકીયતાને ચકાસવા માટે વિભેદક સ્કેનિંગ કેલરીમેટ્રી (DSC) અપનાવવી આવશ્યક છે. ગલન એન્થાલ્પી ચકાસવા માટે 5~10mg કોટિંગ નમૂનાને 10°C/મિનિટના દરે ગરમ કરવામાં આવે છે. સ્ફટિકીયતાની ગણતરી 100% સ્ફટિકીય PTFE (આશરે 82J/g) ની સૈદ્ધાંતિક ગલન એન્થાલ્પી દ્વારા પરીક્ષણ કરાયેલ મેલ્ટિંગ એન્થાલ્પીને વિભાજિત કરીને કરવામાં આવે છે. બેન્ડિંગ રેઝિસ્ટન્સ, વેઅર રેઝિસ્ટન્સ અને અન્ય પર્ફોર્મન્સ ટેસ્ટ સાથે જોડીને, શ્રેષ્ઠ પ્રક્રિયા વિન્ડો નક્કી કરી શકાય છે.
સામાન્ય કામગીરીના સિદ્ધાંતો : ઓછી સ્ફટિકીયતા મેળવવા માટે, સંપૂર્ણ સિન્ટરિંગ પછી તાત્કાલિક શમનનો અમલ કરો; ઉચ્ચ સ્ફટિકીયતા મેળવવા માટે, સતત તાપમાન 310°C ની નજીક રાખો અને ત્યારબાદ સંપૂર્ણ સિન્ટરિંગ પછી અત્યંત ધીમી ઠંડક આવે છે.
