પીટીએફઇ ઉચ્ચ-તાપમાન કાપડ તેના નોન-સ્ટીક, ગરમી-પ્રતિરોધક અને કાટ વિરોધી ગુણધર્મો માટે મૂલ્યવાન છે. પરંતુ તે જ અતિ-સરળ, નીચી-સપાટી-ઊર્જા, રાસાયણિક રીતે નિષ્ક્રિય સપાટી જે તેને પ્રકાશન કાર્યક્રમો માટે આદર્શ બનાવે છે તે બોન્ડ, પ્રિન્ટ અથવા લેમિનેટ પણ લગભગ અશક્ય બનાવે છે.
ઉકેલ એ સપાટીની સારવાર છે - પીટીએફઇ સપાટીની માઇક્રોસ્ટ્રક્ચર અને રાસાયણિક રચના બંનેને બિન-બંધનક્ષમમાંથી બંધનપાત્રમાં રૂપાંતરિત કરવા માટે એન્જિનિયરિંગ.
Aokai PTFE વિવિધ સપાટી સારવાર વિકલ્પો સાથે PTFE કાપડ ઓફર કરે છે. આ માર્ગદર્શિકા ચાર સામાન્ય પદ્ધતિઓ સમજાવે છે – કેમિકલ એચીંગ, પ્લાઝ્મા ટ્રીટમેન્ટ, કોરોના ટ્રીટમેન્ટ અને લેસર ટ્રીટમેન્ટ – અને દરેક કેવી રીતે સપાટીને ભૌતિક અને રાસાયણિક રીતે સંશોધિત કરે છે.
આ વેટ-ટ્રીટમેન્ટ પદ્ધતિ સૌથી લાંબા સમય સુધી ચાલતી અસર પહોંચાડે છે અને પીટીએફઇ બોન્ડિંગ માટે સૌથી વધુ વ્યાપક એપ્લિકેશન જુએ છે.
1. ભૌતિક બંધારણમાં ફેરફાર
સોડિયમ-નેપ્થાલિન કોમ્પ્લેક્સ સોલ્યુશન ટોચની સપાટીના સ્તરમાંથી ફ્લોરિન અણુઓને દૂર કરીને પીટીએફઇ સપાટીને નકશી કરે છે. મૂળ અરીસા-સુગમ સપાટી અસંખ્ય માઇક્રોન-થી નેનોસ્કેલ હનીકોમ્બ- અથવા કોરલ-આકારના ખાડાઓ અને પોલાણથી કોતરેલી છે. આ રફનિંગ ચોક્કસ સપાટીના વિસ્તારને તીવ્રપણે મોટું કરે છે અને એડહેસિવ્સ માટે યાંત્રિક-ઇન્ટરલોકિંગ એન્કર પોઇન્ટ બનાવે છે.
2. રાસાયણિક માળખું ફેરફાર
આ મૂળભૂત પરિવર્તન છે. અસંતૃપ્ત કાર્બન સાંકળો અને મુક્ત રેડિકલ છોડીને, પીટીએફઇ કાર્બન બેકબોનમાંથી મજબૂત રીતે ઘટાડી શકાય તેવું સોડિયમ ફ્લોરિન અણુઓ કાઢે છે. આ સક્રિય સાઇટ્સ આસપાસની હવા અથવા દ્રાવણમાં ભેજ અને ઓક્સિજન સાથે વધુ પ્રતિક્રિયા આપે છે, જેમાં કાર્બોનિલ (C=O), હાઇડ્રોક્સિલ (-OH), અને કાર્બોક્સિલ (-COOH) સહિતના ધ્રુવીય કાર્યાત્મક જૂથોનો પરિચય થાય છે . દરમિયાન, સપાટી પર કાર્બનનું પ્રમાણ વધે છે અને સારવાર કરેલ સ્તર ઘેરા-ભુરો અથવા ભૂરા-કાળા રંગમાં ફેરવાય છે.
3. પરિણામ
અર્ધ-કાર્બોનાઇઝ્ડ સક્રિય સ્તર રચાય છે. સારવાર ન કરાયેલ શુદ્ધ પીટીએફઇ માટે સપાટીની ઉર્જા 20 ડાયન/સે.મી.થી ઉપર વધે છે 40-50 ડાયન/સે.મી.થી , જે પાણી-આધારિત એડહેસિવ્સ સાથે સીધા બંધનને પણ સક્ષમ કરે છે. આ માળખાકીય ફેરફાર કાયમી છે . જો કે, સારવાર કરેલ સ્તર માત્ર કેટલાક માઇક્રોન પાતળું છે અને સાવચેતીપૂર્વક રક્ષણની જરૂર છે.
પ્લાઝ્મા સારવાર
સામાન્ય રીતે આંશિક અથવા ઇન-લાઇન પ્રક્રિયા માટે વપરાય છે, પ્લાઝ્મા ટ્રીટમેન્ટને વેક્યૂમ પ્લાઝ્મા અને વાતાવરણીય-પ્રેશર પ્લાઝમામાં વર્ગીકૃત કરવામાં આવે છે.
1. ભૌતિક બંધારણમાં ફેરફાર
ઉચ્ચ-ઊર્જા કણો (ઇલેક્ટ્રોન, આયનો, મુક્ત રેડિકલ) પીટીએફઇ સપાટી પર સતત બોમ્બ ધડાકા કરે છે અને સ્પુટર-ઇચિંગ અસરોને ટ્રિગર કરે છે. સપાટી પર અલ્ટ્રા-ફાઇન નેનોસ્કેલ રફન ટેક્સચરનું શિલ્પ કરવામાં આવ્યું છે; ફાઇબરગ્લાસ સબસ્ટ્રેટને નુકસાન પહોંચાડ્યા વિના નબળા સીમા સ્તરને દૂર કરવામાં આવે છે. માઇક્રોસ્કોપિકલી, સ્ફટિકીય જથ્થાબંધ-સંરચિત સપાટી આકારહીન સૂક્ષ્મ-રફની સ્થિતિમાં પરિવર્તિત થાય છે.
2. રાસાયણિક માળખું ફેરફાર
પ્રક્રિયા ગેસ અંતિમ કાર્યાત્મક જૂથો નક્કી કરે છે:
નિષ્ક્રિય ગેસ ટ્રીટમેન્ટ (દા.ત., આર્ગોન): ધ્રુવીય જૂથોની અનુગામી કલમ બનાવવા માટે સપાટી મુક્ત રેડિકલ પેદા કરવા માટે CF બોન્ડ તોડે છે
પ્રતિક્રિયાશીલ વાયુઓ (ઓક્સિજન, એમોનિયા): હાઇડ્રોક્સિલ, કાર્બોનિલ અને એમિનો જૂથોને પરમાણુ સાંકળો પર સીધી કલમ કરો
3. પરિણામ
સ્વચ્છ, અત્યંત ભીની કરી શકાય તેવી નેનો-ખરબચડી સપાટી પ્રાપ્ત થાય છે. બોન્ડિંગ-વધારતી અસર સમય જતાં ઘટતી જાય છે , તેથી પ્લાઝ્મા ટ્રીટમેન્ટ પછી તરત જ લેમિનેશન હાથ ધરવું જોઈએ. તેની મુખ્ય યોગ્યતા અલ્ટ્રા-છીછરા સંશોધિત સ્તર છે, જે એકંદર સામગ્રીની જાડાઈ અને મૂળ રંગમાં ભાગ્યે જ ફેરફાર કરે છે.
કોરોના સારવાર
એક ઉચ્ચ-વોલ્ટેજ ડિસ્ચાર્જ ટેકનિક જે પાતળી-ફિલ્મ સામગ્રી પર ઝડપથી કામ કરે છે છતાં તે ઝડપી પ્રદર્શન રીગ્રેસનથી પીડાય છે.
1. ભૌતિક બંધારણમાં ફેરફાર
હાઈ-વોલ્ટેજ કોરોના ડિસ્ચાર્જ માઇક્રો-આર્ક ફ્લૅશ પેદા કરે છે. ઉચ્ચ-ઊર્જાવાળા ઇલેક્ટ્રોનથી થતી અસર PTFE મોલેક્યુલર ચેઇનને ફ્રેક્ચર કરે છે, સક્રિય સાઇટ્સ બનાવે છે અને છીછરા, સૂક્ષ્મ રફ ટેક્સચરને બહાર કાઢે છે. પ્લાઝ્મા ટ્રીટમેન્ટની સરખામણીમાં ઓછી ઉર્જા અને ઓછી પ્રતિક્રિયાના સમયગાળાને કારણે, કોરોના માત્ર મર્યાદિત ખાડા જેવી સપાટીને રફનિંગ ઉત્પન્ન કરે છે.
2. રાસાયણિક માળખું ફેરફાર
ઓઝોન અને પ્રતિક્રિયાશીલ ઓક્સિજન પ્રજાતિઓ ડિસ્ચાર્જ ઝોનમાં ઉત્પન્ન થાય છે. સપાટીની ઊર્જાને નોંધપાત્ર રીતે વધારવા માટે ઓક્સિડેશન હાઇડ્રોક્સિલ જૂથો, પેરોક્સાઇડ્સ અને કાર્બોનિલ જૂથોને રજૂ કરે છે.
3. પરિણામ
સારવાર માત્ર અસ્થિર માળખાકીય ફેરફાર સાથે અત્યંત પાતળા સપાટીના સ્તરને અસર કરે છે, જેની એડહેસિવ-બુસ્ટિંગ અસર ઝડપથી ઝાંખી થઈ જાય છે. તે મુખ્યત્વે કામચલાઉ ઇન-લાઇન સંલગ્નતા-પ્રોત્સાહન પ્રક્રિયા તરીકે જમાવવામાં આવે છે. PTFE ઉચ્ચ-તાપમાન કાપડ જેવી જાડી, ભરેલી સામગ્રી માટે, કોરોના ટ્રીટમેન્ટ સામાન્ય રીતે પ્લાઝ્મા ટ્રીટમેન્ટ અને રાસાયણિક એચીંગની તુલનામાં હલકી ગુણવત્તાવાળા પરિણામો આપે છે.
લેસર સારવાર
એક્સાઈમર-લેસર અથવા ફેમટોસેકન્ડ-લેસર ટેક્નોલોજીનો ઉપયોગ કરીને ચોકસાઇ સપાટી ફેરફાર.
1. ભૌતિક બંધારણમાં ફેરફાર
ફોટોથર્મલ અને ફોટોકેમિકલ અસરો ચોક્કસ રીતે નિયમિત માઇક્રોન-સ્કેલ એરે પેટર્ન જેમ કે સામયિક લહેરિયાં, ગ્રુવ્સ અથવા માઇક્રો-પિલર્સ બનાવે છે. આ કૃત્રિમ રીતે એન્જિનિયર્ડ ટેક્સચરને એડહેસિવ્સ સાથે મિકેનિકલ ઇન્ટરલોકિંગ માટે શ્રેષ્ઠ ભૂમિતિ બનાવવા માટે ચોક્કસ રીતે કસ્ટમ-ટ્યુન કરી શકાય છે.
2. રાસાયણિક માળખું ફેરફાર
ઉચ્ચ-ઊર્જા લેસર ફોટોન ઉચ્ચ-શક્તિવાળા CF બોન્ડને તોડે છે, જે સ્થાનિક ડિફ્લોરીનેશન અને કાર્બનાઇઝેશનને ઉત્તેજિત કરે છે. સારવાર કરેલ વિસ્તારો એલિવેટેડ ઓક્સિજન સામગ્રી સાથે હીરા જેવા કાર્બન અથવા ગ્રાફિક કાર્બન સ્તરો વિકસાવે છે. અલ્ટ્રાવાયોલેટ એક્સાઇમર લેસરો કાર્બનાઇઝેશન વિના સીધી ફોટોકેમિકલ પ્રતિક્રિયાઓ દ્વારા સક્રિય મોનોમર્સને કલમ બનાવી શકે છે.
3. પરિણામ
ભૌતિક રચના અને રાસાયણિક ધ્રુવીયતાના સિંક્રનસ, લક્ષિત અને પેટર્નવાળી ફેરફાર પ્રાપ્ત થાય છે. નિષ્ક્રિય પોલિમર સપાટી નિયંત્રણક્ષમ રફનેસ અને ઉચ્ચ સપાટી ઊર્જા સાથે કાર્બન-ઓક્સિજન-સમૃદ્ધ સ્તરમાં રૂપાંતરિત થાય છે, જે ઉચ્ચ-શક્તિ અને લાંબા ગાળાના બંધન પ્રદર્શન પ્રદાન કરે છે.
સારાંશ - ભૌતિક અને રાસાયણિક પરિવર્તન
તમામ ચાર સારવાર પદ્ધતિઓ બે મૂળભૂત ફેરફારો પ્રાપ્ત કરે છે:
1. ભૌતિક પરિવર્તન
પરમાણુ-સ્તરની સરળ નિષ્ક્રિય સપાટી માઇક્રો-નેનો-સ્કેલ પોલાણ, ગ્રુવ્સ અને કોરલ-શૈલીના પ્રોટ્રુઝનથી ઢંકાયેલી ખરબચડી ટોપોગ્રાફીમાં પરિવર્તિત થાય છે, જે એડહેસિવ બોન્ડિંગ માટે વિપુલ પ્રમાણમાં યાંત્રિક-ઇન્ટરલોકિંગ એન્કર પોઇન્ટ પ્રદાન કરે છે.
પદ્ધતિ
રફનેસ સ્કેલ
પેટર્નનો પ્રકાર
કેમિકલ એચીંગ
માઇક્રો નેનો
હનીકોમ્બ, કોરલ જેવો (રેન્ડમ)
પ્લાઝ્મા સારવાર
નેનો
દંડ, એકસમાન (નિરાકાર)
કોરોના સારવાર
નેનો (છીછરા)
મર્યાદિત ખાડા જેવા
લેસર સારવાર
સૂક્ષ્મ
નિયમિત એરે (લહેરિયાં, થાંભલા, ખાંચો)
2. રાસાયણિક પરિવર્તન
પરફ્લુરોકાર્બન સાંકળો (-CF₂-CF₂-) થી બનેલી ઓછી ઉર્જા સપાટી ઓક્સિજન- અને નાઈટ્રોજન ધરાવતા ધ્રુવીય કાર્યાત્મક જૂથો સાથે વિપુલ પ્રમાણમાં ઉચ્ચ-ઊર્જાવાળી સપાટીમાં રૂપાંતરિત થાય છે. સંશોધિત સપાટીને નિયમિત ગુંદર દ્વારા ભીની કરી શકાય છે અને હાઇડ્રોજન બોન્ડ અથવા રાસાયણિક બોન્ડ પણ એડહેસિવ પરમાણુઓ સાથે બનાવી શકાય છે.
પદ્ધતિ
સપાટી ઉર્જા પ્રાપ્ત કરી
સ્થાયીતા
કેમિકલ એચીંગ
40-50 ડાયન/સે.મી
કાયમી
પ્લાઝ્મા સારવાર
40-60 ડાયન/સે.મી
ટૂંકી વિન્ડો (કલાકોથી દિવસો)
કોરોના સારવાર
38-45 ડાયન/સે.મી
ખૂબ ટૂંકા (કલાક)
લેસર સારવાર
વૈવિધ્યપૂર્ણ
કાયમી
Aokai PTFE પ્રમાણભૂત વિકલ્પો તરીકે રાસાયણિક એચિંગ (કાયમી, શ્યામ સપાટી) અને પ્લાઝ્મા ટ્રીટમેન્ટ (સ્વચ્છ, રંગ-સંરક્ષણ, ટૂંકી સક્રિયકરણ વિન્ડો) સાથે પીટીએફઇ કાપડ ઓફર કરે છે. લેસર ટ્રીટમેન્ટ ચોકસાઇ પેટર્નની જરૂર હોય તેવા વિશિષ્ટ એપ્લિકેશનો માટે ઉપલબ્ધ છે. તમારી બોન્ડિંગ આવશ્યકતાઓની ચર્ચા કરવા માટે અમારો સંપર્ક કરો.
