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घर » समाचार » पीटीएफई चिपकने वाला टेप » ऑर्गेनोसिलिकॉन चिपकने वाली परतों की क्रॉस-लिंक्ड संरचना की एकरूपता पर इन्फ्रारेड रेडिएशन हीटिंग और हॉट एयर सर्कुलेशन हीटिंग इलाज विधियों के प्रभावों में अंतर

ऑर्गेनोसिलिकॉन चिपकने वाली परतों की क्रॉस-लिंक्ड संरचना की एकरूपता पर इन्फ्रारेड विकिरण हीटिंग और गर्म हवा परिसंचरण हीटिंग इलाज विधियों के प्रभावों में अंतर

दृश्य: 0     लेखक: साइट संपादक प्रकाशन समय: 2026-07-22 उत्पत्ति: साइट

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विषयसूची

हीट ट्रांसफर तंत्र और अनुप्रयोग अंतर टेफ्लॉन कपड़ा इलाज की प्रक्रिया में

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I. टेफ्लॉन कपड़े का हीट ट्रांसफर तंत्र और तापमान क्षेत्र अंतर

1. गर्म वायु परिसंचरण तापन

थर्मल संवहन और थर्मल चालन पर भरोसा करते हुए, गर्मी धीरे-धीरे सतह से आंतरिक तक स्थानांतरित होती है। इस हीटिंग विधि में हल्के तापमान में वृद्धि, चिपकने वाली परत के अंदर और बाहर एक छोटा तापमान अंतर और समान तापमान वितरण शामिल है।

2. इन्फ्रारेड विकिरण तापन

इन्फ्रारेड ऊर्जा की प्रवेश गहराई सीमित होती है और यह सतह परत द्वारा दसियों से सैकड़ों माइक्रोमीटर की गहराई पर दृढ़ता से अवशोषित होती है, जिसके परिणामस्वरूप सामग्री की सतह पर तात्कालिक उच्च तापमान होता है। आंतरिक भाग को केवल धीमी तापीय चालन के माध्यम से गर्म किया जा सकता है, जिससे उच्च सतह तापमान और कम आंतरिक तापमान के साथ एक तीव्र तापमान प्रवणता बनती है।

द्वितीय. क्रॉस-लिंक्ड संरचना की एकरूपता पर टेफ्लॉन क्लॉथ का मुख्य प्रभाव

1. क्रॉस-लिंकिंग घनत्व वितरण: गर्म हवा हीटिंग के लिए समान, इन्फ्रारेड हीटिंग के लिए ग्रेडिएंट

गर्म हवा का ताप मूल रूप से चिपकने वाली परत के अंदर और बाहर समकालिक इलाज प्रतिक्रियाओं को सक्षम बनाता है, जिससे क्रॉस-लिंक्ड नेटवर्क लगातार समग्र घनत्व के साथ समान रूप से बढ़ने की अनुमति देता है। इन्फ्रारेड हीटिंग के तहत, सतह परत घनी 'त्वचा फिल्म' बनाने के लिए तेजी से क्रॉस-लिंकिंग से गुजरती है। यह फिल्म न केवल आंतरिक ताप संचालन में बाधा डालती है, बल्कि आंतरिक आणविक श्रृंखलाओं की गति को भी रोकती है, जिसके परिणामस्वरूप सतह से आंतरिक तक क्रॉस-लिंकिंग घनत्व कम हो जाता है और बाहर की तरफ उच्च घनत्व और अंदर की तरफ कम घनत्व के साथ एक ढाल संरचना बनती है।

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2. इलाज की प्रक्रिया और त्वचा फिल्म प्रभाव: इन्फ्रारेड हीटिंग में दोष होने का खतरा होता है

गर्म वायु तापन की उपचार प्रक्रिया समन्वित है। संक्षेपण प्रतिक्रियाओं के उप-उत्पाद जैसे अल्कोहल और पानी चिपकने वाली परत के अंदरूनी हिस्से से पूरी तरह से बच सकते हैं, जिससे कुछ दोषों के साथ घनी चिपकने वाली परत बन जाती है। इसके विपरीत, इन्फ्रारेड हीटिंग के दौरान सतह की परत तुरंत ठीक हो जाती है और फिल्म बन जाती है। यदि वाष्पीकृत आंतरिक उप-उत्पाद सतह की त्वचा से टूटते हैं, तो पिनहोल और बुलबुले रह जाएंगे; यदि नहीं, तो एक कमजोर इंटरफ़ेस परत बनेगी, जो चिपकने वाली परत की संरचनात्मक एकरूपता और बंधन शक्ति को गंभीर रूप से नुकसान पहुंचाती है।

3. सूक्ष्म नेटवर्क संरचना की अखंडता: इन्फ्रारेड हीटिंग आंतरिक तनाव का परिचय दे सकता है

गर्म हवा के गर्म होने के दौरान आणविक श्रृंखलाओं में पर्याप्त विश्राम का समय होता है, जिससे कम अवशिष्ट आंतरिक तनाव के साथ एक पूर्ण क्रॉस-लिंक्ड नेटवर्क बनता है। इन्फ्रारेड हीटिंग के लिए, सतह परत को पहले आकार दिया जाता है। जब बाद में इलाज के दौरान आंतरिक सामग्री सिकुड़ती है, तो यह कठोर बाहरी परत द्वारा बाधित होती है, जिससे महत्वपूर्ण अवशिष्ट आंतरिक तनाव उत्पन्न होता है। इससे चिपकने वाली परत विकृत हो जाती है, संबंध प्रदर्शन कम हो जाता है और यांत्रिक गुण असमान हो जाते हैं।

तृतीय. टेफ्लॉन चिपकने वाला टेप के मुख्य प्रदर्शन अंतर

गर्म हवा परिसंचरण ताप : समान तापमान क्षेत्र, लगातार क्रॉस-लिंकिंग घनत्व, कुछ संरचनात्मक दोष और कम आंतरिक तनाव, एक अभिन्न और समान क्रॉस-लिंक्ड नेटवर्क बनाते हैं।

इन्फ्रारेड विकिरण तापन : बड़ा तापमान प्रवणता, सतह से आंतरिक भाग तक घटता हुआ क्रॉस-लिंकिंग घनत्व, बुलबुले और पिनहोल जैसे दोषों की संभावना, उच्च आंतरिक तनाव, एक 'कठोर खोल और नरम कोर' संरचनात्मक विशेषता पेश करता है। उपरोक्त अंतर अनिवार्य रूप से दो हीटिंग विधियों के विभिन्न ताप हस्तांतरण तंत्रों से उत्पन्न होते हैं।

चतुर्थ. टेफ्लॉन चिपकने वाला टेप के लिए आवेदन चयन और सुझाव

मोटी-परत पोटिंग और सटीक इलेक्ट्रॉनिक इन्सुलेशन जैसी सख्त एकरूपता आवश्यकताओं वाले परिदृश्यों के लिए, गर्म हवा परिसंचरण का इलाज इसकी बेहतर एकरूपता के कारण पसंदीदा प्रक्रिया है। रिलीज फिल्म कोटिंग जैसे पतले-कोट वाले तेजी से इलाज वाले अनुप्रयोगों के लिए, इन्फ्रारेड हीटिंग का उच्च दक्षता लाभ अपनाया जा सकता है। उत्पादन दक्षता और उत्पाद की गुणवत्ता को संतुलित करने के लिए, एक संयुक्त 'इन्फ्रारेड + गर्म हवा' प्रक्रिया की सिफारिश की जाती है: इन्फ्रारेड हीटिंग का उपयोग तेजी से सतह सुखाने या प्रीहीटिंग के लिए किया जाता है, और गर्म हवा हीटिंग को समान रूप से गहरे इलाज के लिए लागू किया जाता है।

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