ची उष्णता हस्तांतरण यंत्रणा आणि अनुप्रयोगातील फरक टेफ्लॉन कापड क्यूरिंग प्रक्रियेत
I. उष्णता हस्तांतरण यंत्रणा आणि टेफ्लॉन कापडाचे तापमान क्षेत्र फरक
1. हॉट एअर सर्कुलेशन हीटिंग
थर्मल कन्व्हेक्शन आणि थर्मल वहन यावर अवलंबून राहून, पृष्ठभागापासून आतील भागात हळूहळू उष्णता हस्तांतरण होते. या गरम पद्धतीमध्ये तापमानात सौम्य वाढ, चिकट थराच्या आत आणि बाहेर तापमानात थोडासा फरक आणि समान तापमान वितरणाची वैशिष्ट्ये आहेत.
2. इन्फ्रारेड रेडिएशन हीटिंग
इन्फ्रारेड ऊर्जेची मर्यादित आत प्रवेशाची खोली असते आणि ती दहापट ते शेकडो मायक्रोमीटर खोलीवर पृष्ठभागाच्या थराद्वारे जोरदारपणे शोषली जाते, परिणामी सामग्रीच्या पृष्ठभागावर तात्काळ उच्च तापमान होते. आतील भाग केवळ मंद थर्मल वहन द्वारे गरम केले जाऊ शकते, उच्च पृष्ठभागाचे तापमान आणि कमी अंतर्गत तापमानासह तीव्र तापमान ग्रेडियंट तयार करते.
II. क्रॉस-लिंक्ड स्ट्रक्चरच्या एकरूपतेवर टेफ्लॉन कापडाचा मुख्य प्रभाव
1. क्रॉस-लिंकिंग घनता वितरण: गरम हवा गरम करण्यासाठी एकसमान, इन्फ्रारेड हीटिंगसाठी ग्रेडियंट
हॉट एअर हीटिंग मुळात ॲडहेसिव्ह लेयरच्या आत आणि बाहेर सिंक्रोनस क्यूरिंग रिॲक्शन्स सक्षम करते, ज्यामुळे क्रॉस-लिंक केलेले नेटवर्क एकसमान संपूर्ण घनतेसह एकसमान वाढू शकते. इन्फ्रारेड हीटिंग अंतर्गत, दाट 'त्वचा फिल्म' तयार करण्यासाठी पृष्ठभागाचा थर जलद क्रॉस-लिंकिंगमधून जातो. ही फिल्म केवळ आतील उष्णतेच्या वहनातच अडथळा आणत नाही तर अंतर्गत आण्विक साखळींच्या हालचालीवर प्रतिबंध देखील करते, परिणामी पृष्ठभागापासून आतील बाजूस क्रॉस-लिंकिंग घनता कमी होते आणि बाहेरून जास्त घनता आणि आतील बाजूस कमी घनता असलेली ग्रेडियंट रचना तयार होते.
2. बरा करण्याची प्रक्रिया आणि त्वचेचा फिल्म प्रभाव: इन्फ्रारेड हीटिंगमुळे दोष होण्याची शक्यता असते
गरम हवा तापवण्याची प्रक्रिया समन्वित केली जाते. अल्कोहोल आणि पाणी यासारख्या संक्षेपण प्रतिक्रियांचे उप-उत्पादने चिकट थराच्या आतील भागातून पूर्णपणे बाहेर पडू शकतात, काही दोषांसह दाट चिकट थर तयार करतात. याउलट, इन्फ्रारेड गरम करताना पृष्ठभागाचा थर त्वरित बरा होतो आणि फिल्म तयार होतो. जर बाष्पयुक्त अंतर्गत उप-उत्पादने पृष्ठभागाच्या त्वचेतून फुटली तर पिनहोल आणि फुगे शिल्लक राहतील; तसे न केल्यास, एक कमकुवत इंटरफेस स्तर तयार होईल, जो चिकट थराची संरचनात्मक एकरूपता आणि बाँडिंग मजबुतीला गंभीरपणे नुकसान करते.
गरम हवा गरम करताना आण्विक साखळ्यांमध्ये पुरेसा विश्रांतीचा वेळ असतो, ज्यामुळे कमी अवशिष्ट अंतर्गत ताणासह संपूर्ण क्रॉस-लिंक्ड नेटवर्क तयार होते. इन्फ्रारेड हीटिंगसाठी, पृष्ठभागाचा थर प्रथम आकार दिला जातो. त्यानंतरच्या उपचारादरम्यान जेव्हा अंतर्गत सामग्री आकुंचन पावते, तेव्हा ती कठोर बाह्य स्तरामुळे मर्यादित होते, ज्यामुळे लक्षणीय अवशिष्ट अंतर्गत ताण निर्माण होतो. यामुळे चिकट थर विकृत होतो, बाँडिंगची कार्यक्षमता कमी होते आणि असमान यांत्रिक गुणधर्म होतात.
III. टेफ्लॉन ॲडेसिव्ह टेपचे मुख्य कार्यप्रदर्शन फरक
हॉट एअर सर्कुलेशन हीटिंग : एकसमान तापमान फील्ड, सातत्यपूर्ण क्रॉस-लिंकिंग घनता, काही संरचनात्मक दोष आणि कमी अंतर्गत ताण, एक अविभाज्य आणि एकसमान क्रॉस-लिंक केलेले नेटवर्क तयार करते.
इन्फ्रारेड रेडिएशन हीटिंग : मोठे तापमान ग्रेडियंट, पृष्ठभागापासून आतील भागात क्रॉस-लिंकिंग घनता कमी होत आहे, बुडबुडे आणि पिनहोल्स सारख्या दोषांना प्रवण, उच्च अंतर्गत ताण, 'हार्ड शेल आणि सॉफ्ट कोर' संरचनात्मक वैशिष्ट्य सादर करते. वरील फरक मूलत: दोन हीटिंग पद्धतींच्या भिन्न उष्णता हस्तांतरण यंत्रणेमुळे उद्भवतात.
IV. टेफ्लॉन ॲडेसिव्ह टेपसाठी अर्जाची निवड आणि सूचना
जाड-लेयर पॉटिंग आणि तंतोतंत इलेक्ट्रॉनिक इन्सुलेशन यांसारख्या कठोर एकसमानतेच्या आवश्यकता असलेल्या परिस्थितींसाठी, गरम हवेचे अभिसरण क्युरिंग ही त्याच्या उत्कृष्ट एकसमानतेमुळे पसंतीची प्रक्रिया आहे. रिलीझ फिल्म कोटिंगसारख्या पातळ-कोट रॅपिड क्यूरिंग ऍप्लिकेशन्ससाठी, इन्फ्रारेड हीटिंगचा उच्च-कार्यक्षमता फायदा स्वीकारला जाऊ शकतो. उत्पादन कार्यक्षमता आणि उत्पादनाची गुणवत्ता संतुलित करण्यासाठी, एकत्रित 'इन्फ्रारेड + गरम हवा' प्रक्रियेची शिफारस केली जाते: इन्फ्रारेड हीटिंगचा वापर जलद पृष्ठभाग कोरडे करण्यासाठी किंवा प्रीहीटिंगसाठी केला जातो आणि एकसमान खोल उपचार पूर्ण करण्यासाठी गरम हवा गरम केली जाते.
