Ez az útmutató a PTFE magas hőmérsékletű szalagok kiválasztását ismerteti fröccsöntéshez és tapadásgátló alkalmazásokhoz. Hőmérséklet alapú választás: ≤260°C általános műanyagokhoz (szabványos szilikon PSA szalag, 0,13-0,18 mm); 260-300°C magas hőmérsékletű műszaki műanyagokhoz, mint például PC, PA66, POM (magas hőmérsékletű szilikon ragasztó, 0,18-0,25 mm); 300-400°C PEEK, LCP, PPS esetén forró csatornák közelében (a ragasztószalag meghibásodik; használjon ragasztómentes PTFE kendőt vagy PFA fóliát). Anyagalapú kiválasztás: a ragadós anyagokhoz nagy kioldódású tiszta PTFE felületekre van szükség; üveg/ásványi anyagokkal töltött anyagokhoz nagy teherbírású 0,25 mm+ kopásálló szalag szükséges; a korrozív adalékanyagok vegyileg ellenálló ragasztót és sűrű aljzatot igényelnek; a statikus elektromosságra érzékeny alkalmazásokhoz antisztatikus fekete PTFE szalagra van szükség.

A nagy szakítószilárdságú, magas hőmérsékletű PTFE-szövet úgy készül, hogy PTFE-t vonnak be nagy szilárdságú üvegszálas szövetre, amely szakítószilárdságot, hőállóságot, tapadásmentes tulajdonságokat, vegyszerállóságot és alacsony súrlódást kínál. Főbb alkalmazások a következők: ipari szállítás (hőre zsugorodó csomagolás, ételsütés, textilszárítók, papír/fólia szárítás); Kompozit formázókendő és melegen préselt párnabetétek; védőfüggönyök és hőszigetelő köpenyek hegesztése; Elektromos motor és transzformátor szigetelése; csúszócsapágyak és csővezetéktartók építése; vegyi szűrés és szeleptömítés korrozív környezetben. A nagy szakítószilárdság biztosítja a tartósságot feszítés, szakadás, ismételt hajlítás és magas hőmérsékletű mechanikai igénybevétel esetén ezekben a sokrétű, nagy igénybevételű alkalmazásokban.

A szinterezés során az üvegszálas szöveten lévő PTFE részecskék 327 °C felett megolvadnak, tönkretéve az eredeti hajtogatott láncú lamellákat és a részecskehatárokat, így amorf olvadék keletkezik. Lehűléskor a PTFE sugárirányban orientált lamellákból álló szferulitokká kristályosodik át, 50-70%-os kristályossággal. A hűtési sebesség meghatározza a kristály tökéletességét: a lassú hűtés nagyobb kristályosságot, nagyobb szferulitokat, nagyobb keménységet eredményez; a gyors kioltás finomabb szferulitokat és jobb rugalmasságot biztosít.