මෙම ලිපිය මඟින් ඉහළ උෂ්ණත්ව PTFE ටේප් සඳහා organosilicone මැලියම් ඉලක්කය සුව කිරීමේ උපාධියට ළඟා වීම සහතික කිරීම සඳහා ආලේපන යන්ත්‍ර රේඛාවේ වේගය සහ උඳුනේ දිග ගැළපෙන ආකාරය ආවරණය කරයි. මූලික ගැලපුම් මූලධර්මය: සම්පූර්ණ පදිංචි කාලය t_total = ඵලදායී උඳුනේ දිග L ÷ රේඛා වේගය v අවම අවශ්‍ය සුව කිරීමේ කාලයට වඩා අඩු නොවිය යුතුය. 'උෂ්ණත්වය - අවම සුව කිරීමේ කාලය' සම්බන්ධතාවය ස්ථාපිත කිරීම DSC හෝ ඇලවුම් සුව කිරීමේ පරීක්ෂණ හරහා සුව කිරීමේ ලක්ෂණ ලබා ගන්න. සමාන සමුච්චිත සුව කිරීමේ ආකෘතිය: උඳුන කලාපවලට බෙදන්න, ti=Li/v සහ tcure(Ti) ගණනය කරන්න, ∑(ti/tcure(Ti)) ≥1 සහතික කරන්න. ගණනය කිරීමේ ක්රියා පටිපාටි: දිග Li සහ උෂ්ණත්වය Ti සමග උෂ්ණත්ව කලාප සකසන්න; රේඛාවේ වේගය v සකසන්න, එක් එක් කලාපයේ පදිංචි කාලය සහ දායක අනුපාතය ගණනය කරන්න; සම්පූර්ණ ≥1 දක්වා පුනරාවර්තනය කරන්න (ආරක්ෂිත ආන්තිකය 1.1-1.2 නිර්දේශිත).

මෙම ලිපිය ටෙෆ්ලෝන් ඉහළ උෂ්ණත්ව රෙදි මත PTFE ආලේපනයේ ස්ඵටික බව පාලනය කිරීමේ ක්රම ආවරණය කරයි. සිසිලන අනුපාත නියාමනය වඩාත් සෘජු හා ඵලදායී වේ: සීතල වායු තිර, සිසිලන රෝලර් හෝ ජල ටැංකි හරහා වේගවත් සිසිලනය (නිවාදැමීම) - ඇණවුම් කිරීමට පෙර අණුක දාම කැටි වී කුඩා අසම්පූර්ණ ස්ඵටික සාදයි; ආෙල්පනය මෘදුයි, ප්‍රශස්ත නොබැඳි ක්‍රියාකාරිත්වය සමඟ දැඩි වේ, දෘඪතාව/ඇඳුම් ප්‍රතිරෝධය තරමක් අඩු වේ. 10-50 ° C / h හෝ උදුන සිසිලනය තාප සංරක්ෂණ අංශය හරහා මන්දගාමී සිසිලනය (annealing) - අණුක දාම සම්පූර්ණයෙන්ම විශාල සම්පූර්ණ spherulites සකස්; ආලේපනය ඉහළ දෘඪතාව, කැපී පෙනෙන ඇඳුම් ප්රතිරෝධය, ස්ථායී මානයන්, අඩු නම්යශීලීභාවය සහ වැඩි බිඳෙනසුලු බව ඇත.

මෙම ලිපිය උණුසුම්-වායු සංසරණ සින්ටර් උදුන් තුළ ටෙෆ්ලෝන් අධි-උෂ්ණත්ව රෙදි යෙදීම ආවරණය කරයි. ශක්‍යතාව: උදුනේ උෂ්ණත්වය ≤260°C (අඩු උෂ්ණත්වයේ වියළීම, බන්ධන ඉවත් කිරීම, පොහොර ගැල්වීම) විට දැල් පටි හෝ තැටි මත නොඇලෙන කුෂන් ලෙස භාවිතා කළ හැකිය - කඩා ඉවත් කිරීම සහ තෝරා ගැනීමේ කාර්යක්ෂමතාව වැඩි දියුණු කරයි. මධ්‍යම/ඉහළ උෂ්ණත්වවලදී (300-950°C) දැඩි ලෙස තහනම් - PTFE විෂ සහිත HF සහ perfluoroisobutylene මුදා හැරීම, උපකරණ විඛාදනය කිරීම සහ මාරාන්තික විෂ වීම සිදු කරයි. ආරක්ෂිත මූලධර්මය: උඳුනේ උෂ්ණත්වය අපැහැදිලි නම් හෝ 260 ° C ට අඩු සහතික කළ නොහැකි නම්, භාවිතා නොකරන්න. මූලික ගුණාංග: අඛණ්ඩ සේවය -70 ° C සිට 260 ° C, කෙටි කාලීන 300 ° C; අතිශයින්ම නොඇලෙන සහ රසායනික නිෂ්ක්රියතාව; විශිෂ්ට විදුලි පරිවාරක; අඩු ඝර්ෂණය (~ 0.04); ෆයිබර්ග්ලාස් පදනම ඉහළ ආතන්ය ශක්තිය සපයයි.

මෙම ලිපිය සිලිකොන් ඇලවුම් ස්ථරවල හරස් සම්බන්ධිත ව්‍යුහයේ ඒකාකාරිත්වය මත අධෝරක්ත විකිරණ තාපනය සහ උණුසුම්-වායු සංසරණ තාපන සුව කිරීමේ ක්‍රම අතර වෙනස්කම් සංසන්දනය කරයි. තාප සංක්‍රමණ යාන්ත්‍රණ: උණුසුම් වාතය මෘදු උෂ්ණත්වය ඉහළ යාම, කුඩා අභ්‍යන්තර/බාහිර උෂ්ණත්ව වෙනස සමඟ සංවහන සන්නයනය මත රඳා පවතී; IR ප්‍රබල මතුපිට අවශෝෂණය (මයික්‍රොමීටර දස සිට සියගණනක් දක්වා) සහිත සීමිත විනිවිද යාමේ ගැඹුරක් ඇති අතර එය මතුපිට සිට අභ්‍යන්තරය දක්වා බෑවුම් නිර්මාණය කරයි. හරස් සම්බන්ධක ඒකාකාරිත්වයට බලපෑම්: උණුසුම් වාතය ඒකාකාර හරස් සම්බන්ධතා ඝනත්වය සමඟ ඇතුළත සහ පිටත සමමුහුර්ත සුව කිරීම සක්‍රීය කරයි; IR මගින් මතුපිට ස්ථරයක් ශීඝ්‍රයෙන් ඝන 'සමේ පටලය' සෑදීමට හේතු වන අතර එය තාප සන්නායකතාවයට සහ අභ්‍යන්තර දාම චලිතයට බාධා කරයි, හරස් සම්බන්ධක ඝනත්වය මතුපිටින් අභ්‍යන්තරයට අඩු වේ.

මෙම ලිපිය අත්හිටුවන බහුඅවයවීකරණය එදිරිව විසරණ බහුඅවයවීකරණය මගින් නිපදවන PTFE ඉමල්ෂන් අතර වෙනස්කම් ආවරණය කරයි. පැහැදිලි කිරීම: අත්හිටුවීමේ බහුඅවයවීකරණය සෘජුවම PTFE ඉමල්ෂන් නිපදවිය නොහැක; අව්‍යාජ PTFE ඉමල්ෂන් පැමිණෙන්නේ විසරණ බහුඅවයවීකරණයෙන් පමණි. 'අත්හිටුවීමේ ක්‍රමය ඉමල්ෂන්' යනු ඇත්ත වශයෙන්ම භූගත අත්හිටුවීම්-බහු අවයවීකරණය කරන ලද දුම්මල ක්ෂුද්‍ර කුඩු වල ජලීය අත්හිටුවීමකි. විසරණ බහුඅවයවීකරණය (ප්‍රාථමික ඉමල්ෂන්): ගෝලාකාර අංශු (0.1-0.3μm, පටු ව්‍යාප්තිය), perfluorinated surfactants මගින් ස්ථායීකරණය, අතිශය ඉහළ අණුක බර (>94% ස්ඵටික බව), ශක්තිමත් තන්තුකරණය, අඛණ්ඩ දැඩි පටලයක් සෑදීමට 380 ° C සින්ටර් කිරීම අවශ්ය වේ.

මෙම ලිපිය ටෙෆ්ලෝන් ටේප් සඳහා සුව කිරීමේ ක්‍රියාවලි කවුළුව සමඟ පෙරොක්සයිඩ් හරස් සම්බන්ධක කාරක (BPO සහ DCP) වියෝජන උෂ්ණත්වය සහ අර්ධ ආයු කාලය ගලපන්නේ කෙසේද යන්න ආවරණය කරයි. මූලික දත්ත: BPO - ~ 131 ° C දී විනාඩි 1 අර්ධ ආයු කාලය, ~ 92 ° C දී 1- පැය, ~ 72 ° C දී පැය 10; DCP - ~ 171 ° C දී 1-මිනිත්තු, ~ 135 ° C දී පැය 1, ~ 115 ° C දී පැය 10. ගැලපෙන තර්කනය: ඇලවුම් අවශ්යතා 97-99% හරස් සම්බන්ධතා = 5-7 අර්ධ ආයු කාලය; සුව කිරීමේ කාලය = ඉලක්ක උෂ්ණත්වයේ දී 5-7 × අර්ධ ආයු කාලය. නිෂ්පාදන රේඛාවේ පදිංචි වේලාවෙන් උෂ්ණත්වය ආපසු ගණනය කිරීම හෝ උපරිම අවසර ලත් උෂ්ණත්වයේ සිට කාලය ගණනය කිරීම.

මෙම ලිපිය PTFE අධි-උෂ්ණත්ව රෙදි impregnation නිෂ්පාදන රේඛාව සඳහා සාමාන්ය රේඛා වේග පරාසය ආවරණය කරයි. සාමාන්ය වේගය: 2-15 m / min, ස්ථාවර මෙහෙයුම් පරාසය 3-8 m / min, තුනී රෙදි / අධිවේගී රේඛා 10-15 m / min දක්වා. කාවැද්දීම විනිවිද යාමේ බාධා: ෆයිබර් බණ්ඩල් අභ්‍යන්තරයට PTFE ඉමල්ෂන් සමඟ රෙදි සම්පූර්ණයෙන්ම සංතෘප්ත කළ යුතුය - අධික වේගය ප්‍රමාණවත් නොවන කාවැද්දීම, දුම්මල සාගින්න සහ වියළි කෙඳි ඇති කරයි; ඉමල්ෂන් දුස්ස්රාවීතාවය, ඝන ද්රව්ය සාන්ද්රණය, රෙදි වියන ඝනත්වය මේ සියල්ල විනිවිද යාමේ වේගය අඩු කරයි, ඝන / ඝන රෙදි සඳහා මන්දගාමී වේගයක් අවශ්ය වේ. ආෙල්පන පාස්: ඝන දෝෂ රහිත ආෙල්පනය සඳහා අවශ්ය බහු පාස් (2-6+); නැංගුරම් ලෑම සඳහා පළමු සමත්වීම මන්දගාමී වේ, පසුව ලැබෙන ප්‍රවේශයන් මධ්‍යස්ථව වැඩි කළ හැක.

මෙම ලිපිය සිලිකොන් ඇලවුම් ස්ථරයේ හරස් සම්බන්ධිත ව්‍යුහයේ ඒකාකාරිත්වය මත අධෝරක්ත විකිරණ උණුසුම සහ උණුසුම් වායු සංසරණ උණුසුම අතර වෙනස්කම් සංසන්දනය කරයි. තාප සංක්රාමණ යාන්ත්රණ: උණුසුම් වාතය සංවහන-සන්නායක, මෘදු සහ ප්රගතිශීලී, මධ්යස්ථ උෂ්ණත්ව අනුක්රමය නිර්මාණය කිරීම; IR යනු තීව්‍ර මතුපිට අවශෝෂණය (මයික්‍රෝමීටර සිට මිලිමීටර දක්වා) සහිත විකිරණ-අවශෝෂණයක් වන අතර එය ප්‍රපාතයෙන් මතුපිට සිට අභ්‍යන්තර අනුක්‍රමණයක් නිර්මාණය කරයි. හරස් සම්බන්ධක ඝනත්ව ව්‍යාප්තිය කෙරෙහි බලපෑම්: උණුසුම් වාතය අභ්‍යන්තර සහ පිටත කොටස්වලට වල්කනීකරණ උෂ්ණත්ව පරාසයට ආසන්න වශයෙන් එකවර ඇතුළු වීමට ඉඩ සලසයි, ඝනකම දිගේ ඒකාකාර හරස් සම්බන්ධතා ඝනත්වය ලබා දෙයි; IR මගින් මතුපිට ස්ථරයට තාප සංක්‍රමණයට බාධාවක් වන ඝන සමක් ඇති වීම ක්ෂණිකව සුව කිරීමට හේතු වේ, එහි ප්‍රතිඵලයක් ලෙස හරස් සම්බන්ධක ඝනත්වයේ තියුණු අනුක්‍රමණය මතුපිට සිට අභ්‍යන්තරයට අඩු වේ.

මෙම ලිපිය සිලිකා අන්තර්ගතය සහ ඉහළ සිලිකා වීදුරු කෙඳි රෙදිපිළිවල යෙදුම් අවස්ථා ආවරණය කරයි. සිලිකා අන්තර්ගත පිරිවිතර: මූලික දර්ශකය SiO₂ ≥96% (සම්මත 96-98%, වාරික ශ්‍රේණි >99% අම්ල කාන්දු වීම සහ සින්ටර් කිරීම හරහා, පිරිසිදු ක්වාර්ට්ස් තන්තු වෙත ළඟා වේ). නිෂ්පාදනය: ඊ-වීදුරු රෙදි සිලිකා නොවන සංරචක (බෝරෝන් ඔක්සයිඩ්, සෝඩියම් ඔක්සයිඩ්) විසුරුවා හැරීමට උණුසුම් අම්ල කාන්දු වීමකට භාජනය වේ, සිදුරු සහිත අධි-සිලිකා ඇටසැකිල්ලක් නිර්මාණය කරයි, පසුව ඝනත්වය සඳහා සින්ටර් කරනු ලැබේ. මූලික වාසි: ඔක්සිකාරක වායුගෝලයේ 900 ° C දී අඛණ්ඩ සේවය, 1200 ° C ට වැඩි කෙටි කාලීන, 1700 ° C ආසන්නයේ මෘදු කිරීමේ ලක්ෂ්යය; HF සහ උණුසුම් පොස්පරික් අම්ලය හැර බොහෝ අම්ල/ක්ෂාර වලට එරෙහිව රසායනික ස්ථායීතාවය; ඉහළ උෂ්ණත්වවලදී අඩු පාර විද්යුත් නියත සහ ස්ථායී පරිවරණය.

මෙම ලිපිය ටෙෆ්ලෝන් අධි-උෂ්ණත්ව රෙදි වල ක්ෂුද්‍ර ව්‍යුහාත්මක ලක්ෂණ විස්තර කරයි. උපස්ථර ඇටසැකිල්ල: PTFE කාවැද්දීම සඳහා ඉඩකඩ සලසා දෙන ඉහළ සිදුරු සහිත (ෆයිබර් මිටි තුළ මයික්‍රෝන පරිමාණයේ සිදුරු) සරල/ට්විල් වියනෙහි වීදුරු කෙඳි වියන වයනය. ආෙල්පන රූප විද්යාව: සම්පූර්ණ impregnation encapsulation පිහිටුවීමේ 'reinforced කොන්ක්රීට්' ව්යුහය වීදුරු කෙඳි ශක්තිමත් කරන අදියර, PTFE යනු අඛණ්ඩ න්යාසයකි; සින්ටර් කිරීමේදී සාදන ලද සියුම් තන්තු මගින් අන්තර් සම්බන්ධිත ගැටිති (අංශු) මතුපිට නූඩ්ලර් ක්ෂුද්‍ර ව්‍යුහය; පිරිසිදු PTFE හි අඛණ්ඩ ඝන සම ස්ථරය (මයික්‍රෝන දස දහස් ගණනක් ඝන) රසායනික නිෂ්ක්‍රියතාව, නොඇලෙන ගුණ සහ විදුලි පරිවාරක සඳහා ප්‍රධාන බාධකයක් ලෙස.