MQsiliconeresinasthecoretackifierandreinforcing agent,बढ्दो MQ/gumratioto1.2:1–2:1(परम्परागत ग्रेड भन्दा उल्लेखनीय रूपमा उच्च)।यो उच्चMQratioformscontinuous कठोर 'हार्ड-फेज' माइक्रोडोमेनहरू टाउको टाँसिएको तहमा, जसले सिलोक्सेन चेन खण्डहरूको आन्दोलनलाई अवरोध गर्दछ र पर्याप्त रूपमा सुधार गर्ने भण्डारण मोड्युलस र क्रिपरेसिस्टेन्स उच्च तापमान।
2. गर्मी-प्रतिरोधी कठोर समूहहरू र उच्च-बन्ड-ऊर्जा क्रसलिङ्किङ साइटहरूको समावेश
फेनिल, डिफेनिल, वा कार्बोरेनसमूहहरू थिपोलिडाइमेथाइल्सिलक्सेन ब्याकबोन (जस्तै, 20-30mol% phenylcontent) लाई थर्मल चेन मोशन एन्ड्रोइजमा गिलास संक्रमण तापक्रम र rmaldecompositiontemperature.Thecrosslinkingsystempreferentially Employsadition-Curehydrosilylation(Pt-catalyzed),Forming–C–C–वा–Si–C–क्रसलिङ्किङब्रिजहरू उच्च थर्मल स्थिरताका साथ।
3.Crosslinks (Mc) र नेटवर्क दोषहरू बीचको आणविक वजन नियन्त्रण
सक्रिय हाइड्रोजन सामग्री र हाइड्रोजन युक्त सिलिकोनियोइलको लम्बाइलाई सटीक रूपमा समायोजन गरेर, सापेक्ष रूपमा सानो ल्यान्डयुनिफॉर्मएमसी (लगभग 5,000–15,000 ग्राम/मोल) प्राप्त भयो, यो सुनिश्चित गर्दै काम कायम राख्ने उच्च लचिलोपनसथाहाइट तापक्रम।विस्तारितपोस्ट-क्योरिङगरउच्च-तापमान एनेलिङउपभोक्ताका लागि लागू गरिन्छ र सक्रिय समूहहरू र सञ्जालका त्रुटिहरूका कारण तनाव कम गर्नुहोस्।
II. GradientModulusMultilayerAdhesive Structure-Balance TackandCreepResistance
1. प्राइमर-एङ्करिङलेयर(1–3μm): epoxyoracryloyloxygroups समावेश भएको सिलनेकपलिङ्ग एजेन्ट, MQresin सँग प्रि-पोलिमराइज्ड, PTFE सब्सट्रेट र सह-क्रसलिङ्किङमा PTFE सब्सट्रेटको साथ प्रयोग गर्नुहोस्।
2. उच्च-मोड्युलस्कोहेसिभलेयर(मेनबॉडी, लगभग 30–50μm): उच्च-MQ-अनुपात, उच्च-फिनाइल-सामग्री, उच्च-क्रसलिंक-घनत्व सिलिकोनएडिसिभटोफुर्निशरोबस्ट-शीयर-प्रतिरोधी कंकाल प्रयोग गर्नुहोस्।
III. भौतिक क्रसलिङ्किङ र तातो प्रतिरोधी कंकाल निर्माणका लागि नानोफिलर
1. In-SituReinforcement र Nano-Silica को सतह परिमार्जन
फ्युमेडसिलिका (विशिष्ट सतह क्षेत्र२००–३८०m²/g) उत्पादन, सतह-उपचार विनिलट्राइथोक्सिसिलेन वा हेक्सामेथिल्डडिसिलाजेन, एटालोडिङको १०–२५wt%।Thenano-SiO₂formsydrogenorbondssandpactanes-sand-sicines-Creat उल्टाउन मिल्ने शारीरिक क्रसलिङ्किङ नेटवर्क जसले डिसिपेटेसनर्जी र आणविक चेनहरू ढिलोपन र राइट तापक्रमलाई रोक्छ। उच्च-शीर्डस्पर्सन सुनिश्चित गर्ने कि सिलिकाको अस्तित्व 'क्लस्टरहरू' 100nm तलको ग्लोमेरेट आकारको साथ, तनाव एकाग्रताबाट बच्न।
2.DirectionalCreepResistancevia2DNanomaterials
1–5wt% केही-तह-लेयरग्राफनेओरर्गानो-परिमार्जित नानो-मोन्टमोरिलोनाइट, जुन कोटिंगको क्रममा कतरनी-प्रेरित संरेखण मार्फत, ढाँचा 'mazeeffect' paralleltothetapep लेन, काँतर दिशामा अणु चेनको गतिमा उल्लेखनीय रूपमा बढ्दो प्रतिरोध। ग्राफिनल पनि उत्कृष्ट थर्मल चालकता प्रदान गर्दछ, हटस्पटहरू टाउको टाँसिएको तह घटाउने र थर्मल नरम पार्ने ढिलाइ।
IV. रासायनिक एकीकृत सब्सट्रेट-चिपकने इन्टरफेस र प्रक्रिया नियन्त्रण
1. सतह सक्रियता र बिफंक्शनल प्राइमर फर केमिकल बन्डिङ
The PTFEसतहलेपहिलोसोडियम–नेफ्थालिन–THFसमाधान वा कम-प्रेशर आर्गन/अक्सिजनप्लाज्मेटोजेनरेटएक्टिवेटेड लेयर युक्त कार्बोक्साइलल्याण्डहाइड्रोक्सिलसमूहहरू।एप्रिमरसोल्युसन युक्त द्वि-कार्यात्मक अणुहरू (उदाहरणका लागि, आइसोसायनाटेसिलेन,टाइटानेटकोओक्सिलेन,टाइटानेटको अणुहरू सहित) ated.Oneendoftheprimerreacts with–OH/–COOHonthePTFEसतह,जबकि अन्यअन्तरिक्तहरूले हाइड्रोसिलिलेसन वा कन्डेन्सेसन क्रसलिङ्किङ विथथेसिल आइकन टाँसेको, इन्टरफेसमा प्रवेश गर्ने रसायनिक बन्ड नेटवर्क बनाउँछ। यो दृष्टिकोणले उच्च-तापमान होल्डिङ पावर (२६० डिग्री सेल्सियसमा) ३–५ पटक बढाउन सक्छ।
2. र्याम्पेड क्युरिङ र पोष्ट-उपचार दोषहरू हटाउन
एराम्पेडक्योरिङप्रोफाइलइजम्प्लाइड:पहिलो,सैलभेन्टसरेड्राइभेनफन्डटहेडसेभलेयरीस्लेभेटेड80–100°C;त्यसपछि हाइड्रोसिलिलेसन र डेन्सपैकिङकोMQresinarecompletedat150–170°C;अन्तमा,पोस्ट -Curingiscarriedoutat200–220°C को लागि धेरै घण्टाको लागि आन्तरिक तनाव हटाउनुहोस् र भौतिक क्रसलिङ्किङ बिन्दुहरू स्थिर गर्नुहोस्। ढिलो चिसोले माइक्रो क्र्याकिङबाट भिन्नता थर्मल संकुचनलाई रोक्छ।
यदि तपाईलाई उत्पादनहरूको पूर्ण दायराको गहिराइ ज्ञान प्राप्त गर्न मनपर्छ-टेफ्लोन उच्च-तापमान कपडा, टेफ्लोन उच्च-तापमान टेप, टेफ्लोन उच्च-तापमान मेशबेल्ट, सिमलेस कन्वेयर बेल्टहरू बन्डिङ मेसिनहरू, एकल-पक्षीय PTFE कपडा सहित, उच्च-तापमान प्रतिरोधी कन्वेयर बेल्ट, उच्च-तापमान प्रतिरोधी फाइबरग्लास कपडा, र थप-विस्तृत विवरणहरू, अनुप्रयोग परिदृश्यहरू, र अनुकूलन समाधानहरू, कृपया निम्न च्यानलहरू मार्फत स्वतन्त्र सम्पर्क गर्नको लागि महसुस गर्नुहोस्:
