Kaip galima pagerinti aukštos temperatūros tefloninės juostos atsparumą šliaužimui ir ilgalaikį laikymo stabilumą?

I. Molekulinio tinklo topologijaSilikoninio lipniojo sluoksnio optimizavimas – Atsparumo masiniam šliaužimui gerinimas

1. Aukštas MQ dervos/silikoninės gumos santykis ir „kieta šerdies“ struktūra

Gamintojas naudoja MQsilikoną kaip šerdies lipnumą ir stiprintuvą, padidina MQ / gumos koeficientą 1,2:1–2:1 (žymiai aukštesnis nei įprastinės klasės). standžios'kietos fazės'mikromainos su galvos slankiojančiu sluoksniu, ribojančios siloksano grandinės segmentų judėjimą ir iš esmės pagerinančios saugojimo modulį ir atsparumą vandeniui esant aukštai temperatūrai.

2.Karščiui atsparių standžiųjų grupių ir didelio surišimo energijos kryžminio susiejimo svetainių įtraukimas

Į polidimetilsiloksano stuburą įvedamos fenilo, difenilo arba karborano grupės (pvz., 20–30 mol% fenilo kiekio), kad būtų trukdoma šiluminės grandinės judėjimui ir padidinama tiek stiklo pereinamoji temperatūra, tiek skilimo temperatūra. Kryžminio sujungimo sistemoje pirmiausia naudojamas papildomas kietėjimas hidrosililinimas (katalizuojamas Pt), formuojant –C–C–arba–Si–C–kryžminius tiltus, pasižyminčius geresniu terminiu stabilumu.

3. Molekulinio svorio tarp kryžminių nuorodų (MC) ir tinklo defektų kontrolė

Tiksliai sureguliavus aktyvaus vandenilio kiekį ir vandenilio turinčios silikoninės alyvos grandinės ilgį, gaunamas santykinai mažas ir vienodas Mc (apie 5 000–15 000 g/mol), užtikrinant, kad tinklas darbas išlaiko aukštą atsparumą net esant žemai temperatūrai.Pailgintas kietėjimas arba aukštos temperatūros atkaitinimas taikomas likusioms reaktyvioms vartotojų grupėms ir sumažina įtampą, atsipalaidavimą, kurį sukelia tinklo defektai.

II.Gradientas

'Gruntas-inkaravimo sluoksnis + didelio modulio rišlus sluoksnis + viskoelastinis funkcinis sluoksnis'trijų sluoksnių dizainas

1. Gruntas-inkaravimo sluoksnis (1–3 μm): Naudojamas kaip silanas sujungiamasis agentas, turintis epoksioakriloiloksigrupių, iš anksto polimerizuotą su MQ derva, kad būtų tiek cheminis sujungimas su PTFE substratu, tiek kryžminis ryšys su viršutiniu silikono sluoksniu.

2. Didelio modulio rišlumo sluoksnis (pagrindinis korpusas, apie 30–50 μm): naudokite didelį MQ santykį, didelį fenilo kiekį, didelio kryžminio tankio silikoninius klijus, kad būtų aprūpintas tvirtas kirpimui atsparus skeletas.

3. Viskoelastinis sluoksnis (susiliečiantis su galvute, 3–8 μm): naudojamas mažas MQ santykis arba hidroksiline galais silikonine alyva modifikuota minkšta silikonine klijais, kad būtų galima sumažinti paviršiaus modulį ir užtikrinti greitą drėkinimą bei prisitaikymą prie galvos ir aukštesnės temperatūros.

III.Nanoužpildai, skirti statyti fizinį kryžminį ir karščiui atsparų karkasą

1. Nano silicio dioksido sutvirtinimas ir paviršiaus modifikavimas vietoje

Gamintojai gamina dūminį silicio dioksidą (specifinis paviršiaus plotas 200–380 m²/g), paviršius apdorotas viniltrietoksisilanu arba heksametildisilazanu, įkraunant 10–25 masės %. Nano-SiO₂sudaro vandenilio jungtis ir fizikinio oksidacinio junginio susidarymą. grįžtamasis fizinis kryžminis tinklas, kuris išsklaido energiją ir apsaugo nuo molekulinių grandinių slydimo esant aukštai temperatūrai. Didelė šlyties dispersija užtikrina, kad silicio dioksidas yra 'klasteriai' su aglomeratais, kurių dydis mažesnis nei 100 nm, išvengiant streso koncentracijos.

2.Atsparumas kreipimui per 2D nanomedžiagas

Pridėjus 1–5 masės % kelių sluoksnių grafeno arba organiškai modifikuoto nanomontmorilonito, kuris dengimo metu yra orientuotas į sluoksnį dėl šlyties sukelto išlygiavimo, sudaro 'labirinto efektą' lygiagrečiai lipdukui juosta,žymiai didėjantis pasipriešinimas molekulinės grandinės judėjimuiklausos kryptimi.Grafenas taip pat pasižymi puikiu šilumos laidumu, mažina karštąsias vietas galvos sluoksnyje ir uždelsdamas terminį minkštėjimą.

IV. Chemiškai integruotas substratas – lipni sąsaja ir proceso valdymas

1. Paviršiaus aktyvinimas ir dvifunkcinis gruntas cheminiam surišimui

PTFE paviršius pirmiausia apdorojamas natrio-naftaleno-THF tirpalu arba žemo slėgio argono/deguonies plazma, kad būtų sukurtas aktyvuotas sluoksnis, kuriame yra karboksilo ir hidroksilo grupių. Gruntas reaguoja su –OH/–COOH ant PTFE paviršiaus, o kita pusė dalyvauja hidrosililinant arba kondensuojant kryžminį ryšį su silikoniniais klijais, sudarydama cheminį tinklą, prasiskverbiantį per sąsają. Taikant šį metodą, aukšta temperatūra gali padidėti iki 260°C.

2.Pagreitintas kietėjimas ir pooperacinis gydymas defektams pašalinti

Naudojamas sustiprintas kietėjimo profilis:pirmiausia tirpikliai nuvaromi ir 80–100°C temperatūroje išlyginamas galvos sluoksnis; tada MQ dervos hidrosililinimas ir tankus pakavimas baigiamas 150–170 °C temperatūroje; galiausiai -Kietimasvykdomas 200–220°C kelias valandas, kad pašalintų vidinį įtampą ir stabilizuotųsi fiziniai kryžminiai taškai. Lėtas aušinimas apsaugo nuo mikroįtrūkimų dėl skirtingo terminio susitraukimo.

Aukščiau pateiktą informaciją pateikėJiangsuAokaiNewMaterialTechnologyCo.,Ltd.

Jei norėtumėte įgyti išsamių žinių apie visą gaminių asortimentą, įskaitant tefloną aukštos temperatūros audinį, tefloną aukštos temperatūros juostą, tefloninį aukštos temperatūros tinklinį diržą, besiūlius konvejerius klijavimo mašinoms, vienpusį PTFE audinį, aukštai temperatūrai atsparios konvejerio juostos, aukštai temperatūrai atsparus stiklo pluošto audinys ir dar daugiau – kartu su išsamiomis specifikacijomis, taikymo scenarijais ir pritaikymo sprendimais, susisiekite su mumis šiais kanalais:

Karštoji linija:

Ponas Guo: +86 18944819998

P.Liu:+86 13705266308

Mes nuosekliai laikomės profesionalios ir sąžiningumu grindžiamos paslaugų filosofijos, esame pasiryžę teikti jums vieno langelio sprendimus ir dėmesingas paslaugas!