ହାଇ-ହୋଲ୍ଡ ଟେଫଲନ୍ ଉଚ୍ଚ-ତାପମାତ୍ରା ଟେପ୍ ର କ୍ରିପ୍ ପ୍ରତିରୋଧ ଏବଂ ଦୀର୍ଘକାଳୀନ ଧାରଣ ସ୍ଥିରତାକୁ କିପରି ଉନ୍ନତ କରାଯାଇପାରିବ?

I.MolecularNetworkTopologyOptimizationoftheSiliconeAdhesiveLayer - ImprovingBulkCreepResistance

1.HighMQResin / SiliconeRubberRatioand 'ହାର୍ଡ-କୋର ' ଗଠନ

ThemanufactureradoptsMQsiliconeresinasthecoretackifierandreinforcingagent, ବୃଦ୍ଧି / MQ / gumratioto1.2: 1-2: 1 କଠିନ 'ହାର୍ଡ-ଫେଜ୍'

2. ହିଟ୍-ପ୍ରତିରୋଧକ ରିଗିଡ୍ ଗ୍ରୁପ୍ସ ଏବଂ ହାଇ-ବଣ୍ଡ-ଏନର୍ଜି କ୍ରସଲିଙ୍କିଂ ସାଇଟଗୁଡିକ

ଫେନିଲ୍, ଡିଫେନିଲ୍, ଅର୍କାର୍ବୋରେନେଗ୍ରୁପ୍ସାର୍ଟେଣ୍ଟ୍ରୋଡାଇଡେଣ୍ଟୋଥେପୋଲାଇଡିମେଥାଇଲସିଲକ୍ସାନବ୍ୟାକ୍ବୋନ୍ (ଉଦାହରଣ ସ୍ୱରୂପ, 20-30mol% ଫେନିଲକଣ୍ଟେଣ୍ଟ) ଟୋହିଣ୍ଡର୍ମାଲ୍ ଚେନ୍ମୋସନ୍ ଆଣ୍ଡ୍ରାଇସବୋଥ୍ ଟେଗ୍ଲାସଷ୍ଟ୍ରାନ୍ସସନ୍ ଟେମ୍ପେରେଚର୍ ଏବଂ rmaldecompositiontemperature।

C।

ବାଇପ୍ରାଇସେଲିଜେଡିଙ୍ଗ୍ ଆକ୍ଟିଭାଇଡ୍ ହାଇଡ୍ରୋଜେନ କଣ୍ଟେଣ୍ଟାଣ୍ଡ୍ ଚେନ୍ ଲେନ୍ଥଫ୍ଟେହାଇଡ୍ରୋଜେନ୍-କଣ୍ଟେନିସିଲିକୋନୋଏଲ୍, ଆରେଲେଟିଭ୍ ସ୍ମାଲାଲୁଣ୍ଡୁନିଫର୍ମ ଏମସି (ପାଖାପାଖି –୦, ୦୦୦, ୦୦୦, ୦୦୦, ୦୦୦, ୦୦୦, ୦୦୦, ୦୦୦, ୦୦୦, ୦୦୦) କାର୍ଯ୍ୟକ୍ଷେତ୍ର

II.GradientModulusMultilayerAdhesiveStructure - BalancingTackandCreepResistance

'ପ୍ରାଇମର୍-ଆଙ୍କୋରିଙ୍ଗ୍ ପ୍ଲେୟାର୍ + ହାଇ-ମଡ୍ୟୁଲସ୍କୋହେସିଭେଲାୟର୍ + ଭିସ୍କୋଲାଷ୍ଟିକ୍ ଫଙ୍କସନ୍ ପ୍ଲେୟାର୍ ' ତିନି-ସ୍ତରୀୟ ଡିଜାଇନ୍ |

1. ପ୍ରାଇମର୍-ଆଙ୍କୋରିଙ୍ଗଲେର୍ (–-μμ ମି): ୟୁଟିଲାଇଜେସ୍ ସିଲାନେକୋପଲିଙ୍ଗେଜ୍ କଣ୍ଟେଣ୍ଟିଙ୍ଗ୍ ପକ୍ସୋରାକୋରାଇଲୋକ୍ସି ଗ୍ରୁପ୍, ପ୍ରି-ପଲିମେରାଇଜଡ୍ ମାଇକ୍ରସିନ୍, ଟପ୍ରୋଭାଇଡେବୋଥକେମିକାଲ୍ ବଣ୍ଡିଂଟୋଥେ ପିଟିଏଫ୍ ଏସୁବଷ୍ଟ୍ରେଟାଣ୍ଡକୋ-କ୍ରସଲିଙ୍କିଙ୍ଗ୍ ୱିଥର୍ସପିଲିକୋନେଲାୟର୍ ବ୍ୟବହାର କରେ |

2. ହାଇ-ମଡୁଲୁସ୍କୋସିଭେଲାୟର୍ (ମୁଖ୍ୟ ବ୍ୟକ୍ତି, ପାଖାପାଖି –୦- μμ ମି): ଉଷେସିଗ୍- MQ- ଅନୁପାତ, ଉଚ୍ଚ-ଫେନିଲ୍-ବିଷୟବସ୍ତୁ, ଉଚ୍ଚ-କ୍ରସ୍-ଲିଙ୍କ୍-ସାନ୍ଧ୍ରତା

3. ଭିସ୍କୋଲେଷ୍ଟିକ୍ ଫଙ୍କସନାଲ୍ ପ୍ଲେୟାର୍

III.NanofillersforConstructingPhysicalCrosslinkingandHat-ResistantSkeleton

1. ଇନ-ସାଇଟୁ ରିଫୋର୍ସମେଣ୍ଟ ଏବଂ ସର୍ଫେସ୍ ମୋଡିଫିକେସନ୍ ନାନୋ-ସିଲିକା |

ଉତ୍ପାଦନକାରୀ ଫ୍ୟୁମଡେସିଲିକା (ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ପୃଷ୍ଠଭୂମି 200–380 ମି² reversiblephysicalcrosslinkingnetworkthatdissipatesenergyandpreventsmolecularchainslippageathightemperatures.High-sheardispersionensuresthatthesilicaexistsas 'କ୍ଲଷ୍ଟରଗୁଡିକ'

2. ଡାଇରେକ୍ଟାଲ୍ କ୍ରିପ୍ ରେସିଷ୍ଟାନ୍ସଭିଆ 2 ଡି ନାନୋମେଟେରିଆଲ୍ |

Addof1–5wt% ଅଳ୍ପ-ଲେୟାରଗ୍ରାଫେନୋରଗାନୋ-ରୂପାନ୍ତରିତ ନାନୋ-ମୋଣ୍ଟମୋରିଲୋନାଇଟ୍, ୱିଚେରୋରିଏଣ୍ଟେଡିନାଲେରେଡେରେଞ୍ଜମେଣ୍ଟ ଥ୍ରୋଶେୟାର-ଇନଡୁକାଲମେଣ୍ଟମେଣ୍ଟ ଡୁରିଙ୍ଗକୋଟିଂ, ଫର୍ମସା 'ମ୍ୟାଜେଫେକ୍ଟ ' ସମାନ୍ତରାଳ ଭାବରେ | ଲେନ୍

IV.ChemicallyIntegratedSubstrate - AdhesiveInterfaceandProcessControl

1. ସର୍ଫେସ୍ ଆକ୍ଟିଭେସନ୍ ଏବଂ ବିଫଙ୍କସନ୍ ପ୍ରାଇମର୍ଫୋର୍ କେମିକାଲ୍ ବଣ୍ଡିଂ |

ThePTFEsurfaceisfirsttreatedwithasodium - naphthalene - THFsolutionorlow-pressureargon / oxidplasmatogenerateanactivatedlayercontainingcarboxylandhydroxylgroups। ated।

2. ରାମ୍ପେଡ୍ କ୍ୟୁରିଙ୍ଗ୍ ଏବଂ ପୋଷ୍ଟ-ଟ୍ରିଟମେଣ୍ଟ ଏଲିମିନେଟ୍ ଡିଫେକ୍ଟସ୍ |

Arampedcuringprofileisemployed: ପ୍ରଥମେ, ସୋଲଭେଣ୍ଟେଡ୍ରିଭେନଫୋଣ୍ଡଟ ହେଡସିଭ୍ଲେରିସ୍ଲେଭେଲେଡେଟ୍ 80-100 ° C; -curingiscarriedoutat200-220 ° Cforseveralhourstoeliminateinternalstressandstabilizephysicalcrosslinkingpoints.Slowcoolingpreventsmicrocrackingduetodifferentialthermalshrinkage।

TheaboveinformationisprovidedbyJiangsuAokaiNewMaterialTechnologyCo।, Ltd।

Ifyouwouldliketogainin-deepknowledgeofthefullrangeofproducts - ଟେଫ୍ଲୋନହି-ତାପମାତ୍ରା ଫ୍ୟାବ୍ରିକ୍, ଟେଫ୍ଲୋନହି-ତାପମାତ୍ରା ଟେପ୍, ଟେଫ୍ଲୋନହି-ତାପମାତ୍ରା ମେଶବେଲ୍ଟ, ସିମଲେସ କନଭୋର୍ବେଲ୍ସ ଫୋର୍ବଣ୍ଡିଂମାଚାଇନ୍ସ, ଏକକ ପାର୍ଶ୍ PTFEfabric, ଉଚ୍ଚ-ତାପମାତ୍ରା ପ୍ରତିରୋଧକ କନଭେୟର୍ବେଲ୍ଟସ୍, ଉଚ୍ଚ-ତାପମାତ୍ରା ପ୍ରତିରୋଧକ ଫାଇବରଗ୍ଲାସ୍ ଫାବ୍ରିକ୍, ଏବଂ ଅଧିକ - ସହିତ ଡେଟାଏଲେଡ୍ ସ୍ପେସିଫିକେସନ୍, ଆପ୍ଲିକେସନ୍ ସେନାରିଓସ୍, ଏବଂ କଷ୍ଟୋମାଇଜେସନ୍ସଲ୍ୟୁସନ୍, ଦୟାକରି ସେଲଫ୍ରେଟୋକଣ୍ଟାକ୍ଟଷ୍ଟ୍ରେଡ୍ ଫୋଲ୍ଲୋଚାନେଲ୍:

ହଟଲାଇନ:

ଶ୍ରୀ ଗୁଆ: +86 18944819998

ଶ୍ରୀ ଲିୟୁ: +86 13705266308

Weconsistentlyupholdaprofessionalandintegrity-drivenservicephilosophy, andarededicatedtoprovidingyouwithone-stopolutionsandattentiveservice!