Nola hobetu daiteke tenperatura altuko teflon zintaren erresistentzia eta epe luzerako euste-egonkortasuna?

I.Sare molekularraTopologiaSilikonozko itsasgarri-geruzaren optimizazioa–Bulk Creep-ren erresistentzia hobetzea

1.HighMQResin/SiliconeRubberRatioeta'Hard-Core'Egitura

Fabrikatzaileak MQ silikonera hartzen du oinarrizko atxikitzaile eta indartzeko agente gisa, MQ/gom-erlazioa 1,2:1–2:1 handituz (ohiko kalifikazioak baino nabarmen handiagoa). Buru barruko hesi-geruza duten mikrodomeinu zurrunak'fase gogorkoak'siloxano kate-segmentuen mugimendua mugatzen dutenak eta biltegiratze-modulua eta erresistentzia altua duten tenperaturak nabarmen hobetzen dituzte.

2. Beroarekiko erresistenteak diren talde zurrunak eta lotura-energia handiko gurutzaketa guneak sartzea

Fenilo, difenilo edo karbono-taldeak polidimetilsiloxanoaren bizkarrezurrean sartzen dira (adibidez, % 20-30 mol fenilo-edukia) kate termikoen mugimendua oztopatzeko eta beira-trantsizio-tenperatura eta biak igotzeko. rmaldekonposizio-tenperatura.Ergurutze-sistemak lehentasunez gehikuntza-sendatzeko hidrosililazioa erabiltzen du (Pt katalizatua), –C–C–edo–Si–C–gurutzaketa-zubiak osatuz, goi-egonkortasun termikoarekin.

3.Esteka gurutzatuen (Mc) eta sareko akatsen arteko pisu molekularra kontrolatzea

Hidrogenoa duen silikona-olioaren hidrogeno aktiboaren edukia eta katearen luzera zehatz-mehatz doituz, nahiko uniformea den Mc (5.000-15.000 g/mol gutxi gorabehera) lortzen da, sare hori bermatuz. lanek erresilientzia handia mantentzen dute, nahiz eta tenperatura estuetan.Ondoko ontze hedatua edo tenperatura altuko errezibitzea kontsumitzaileen hondar talde erreaktiboei aplikatzen zaie eta sareko akatsek eragindako estresaren erlaxazioa murrizten dute.

II. Gradiente-Modulua Geruza Anitzeko Itsasgarriaren Egitura-Orekatzeko Tack-and CreepResistance

'Primer-ainguratze-geruza+Hiru geruzako diseinua'Hiru geruzako diseinua+Modulu handiko eskohesio-geruza+Funtzio-geruza biskoelastikoa

1.Primer-ainguratze-geruza (1-3μm): epoxioakriloiloxi-taldeak dituen akoplamendu-agente bat erabiltzen du, MQ erretxinarekin aurrez polimerizatua, PTFE-substratuarekin lotura kimikoa eta goiko silikona-geruzarekin ko-gurutzatzeko.

2.High-moduluscohesivelagerger (gorputz nagusia, gutxi gorabehera, 30-50μm): Erabili MQ-erlazio handia, fenilo-eduki handikoa, gurutzadura-dentsitate handiko silikonazko itsasgarria hornitzeko eta zizaila-erresistentea den eskeletoa.

3.Funtzio biskoelastikoko geruza (buru-muturrarekin kontaktuan egonda, 3-8 μm): MQ proportzio baxua edo hidroxi-amaitutako silikona-olioarekin eraldatutako silikonazko itsasgarri biguna gainazaleko beheko moduluan eta bustitze azkarra eta tenperatura altuetan konformagarritasuna ziurtatzen dute.

III.Eskeleto gurutzatuak eta beroarekiko erresistenteak eraikitzeko nanobetegarriak

1.Nano-silizearen in-situ-errefortzuaetaazaleraaldaketa

Fabrikazioak silize lurrintsua erabiltzen du (azalera espezifikoa 200-380 m²/g), gainazal biniltrietoxisilanoarekin edo hexametildisilazanoarekin tratatua,% 10-25 pisua. Thenano-SiO₂hidrogeno-loturak eta adsortzio fisikoak sortzen ditu, siloxanoarekin. Energia xahutzen duen eta kate molekularrak irristatzea saihesten duen sare itzulgarriko gurutzatze-sare fisikoa, tenperatura handietan. Laburdura handiko sakabanaketak ziurtatzen du tesila 100 nm-tik beherako aglomeratuak dituzten 'multzoak' gisa existitzen dela, estresaren kontzentrazioa saihestuz.

2.Direkziozko CreepResistance2DNanomaterialen bidez

Geruza gutxiko grafenoa edo organoz eraldatutako nano-montmorillonitaren %1-5 pisu gehitzea, estaldura bitartean ebakidura-eragindako lerrokaduraren bidez, geruza-antolaketa batean orientatuta dagoena, 'labirinto-efektua'tapeparekin paraleloa da. erreia, kate molekularraren higiduraren erresistentzia nabarmen handitzen du entzumenaren norabidean.Grafenoak ere eroankortasun termiko bikaina eskaintzen du, buruko hesiaren geruzako puntu beroak murrizten eta leuntze termikoa atzeratzen du.

IV.Kimikoki Integratutako Substratua–Itsasgarrien InterfazeaetaProzesuarenKontrola

1.AzaleraAktibazioaetaLoturaKimikorakoPrimerBifuntzionala

PTFE gainazala sodio-naftalenoa-THF disoluzioarekin edo presio baxuko argon/oxigenoplasmatoak geruza aktibatu bat sortzen du lehenik eta behin karboxi- eta hidroxilo-taldeak. Molekula bifuntzionalak dituen lehen-disoluzio bat (adibidez, isozianatilanoa, titano-akoplatzailea + epoxisilanoa) berehalako da. Lehenaren mutur batek–OH/–COOHekin erreakzionatzen du PTFE gainazalean, eta beste muturrak silikonazko itsasgarriarekin gurutzatzen duen hidrosililazioan edo kondentsazioan parte hartzen duen bitartean, interfazea barneratzen duen lotura kimiko sare bat osatuz.

2.OndokoSendotzeaetaOndokoTratamenduaAkatsakKabatzeko

Sendatze-profila erabiltzen da: lehenik, disolbatzaileak ateratzen dira eta buruko geruzak 80-100 °C-ko mailan daude; gero, hidrosililazioa eta MQresinaren ontziratze trinkoa 150-170 °C-ra osatzen dute; azkenik, bidalketa. -Ondutzeak 200–220°C-ko tenperatura hartzen du hainbat orduz barneko tentsioa kentzeko eta gurutzaketa-puntu fisikoak egonkortzeko.

Goiko informazioak ematen duJiangsuAokaiNewMaterialTechnologyCo.,Ltd.

Produktu sorta osoaren ezagutza sakona lortu nahi baduzu, besteak beste, tefloia tenperatura altuko ehuna, tefloia tenperatura altuko zinta, tefloia tenperatura altuko sareko gerrikoa, lotzeko makinetarako josturarik gabeko zinta garraiatzaileak, alde bakarreko PTFE ehuna, Tenperatura altuak erresistenteak diren zinta garraiatzaileak, tenperatura altuak erresistenteak diren beira-zuntzezko ehuna eta gehiago, zehaztapen zehatzekin, aplikazio-eszenatokiekin eta pertsonalizazio-konponbideekin batera, mesedez, jar zaitez harremanetan hurrengo kanaletatik:

Telefonoa:

Guo jauna: +86 18944819998

Liu jauna: +86 13705266308

Etengabe onartzen dugu profesional eta osotasunean oinarritutako zerbitzu-filosofia, eta zuei irtenbide bakarra eta arreta arreta eskaintzera dedikatuta gaude!