Тефлондун жогорку температуралуу лентасынын сойлоп кетүүгө туруктуулугун жана узак мөөнөттүү туруктуулугун кантип жакшыртууга болот?

I. Молекулярдык тармактын топологиясы Силикон жабышчаак катмарын оптималдаштыруу – жапырт сүзүүгө каршылыкты жогорулатуу

1.HighMQResin/SiliconeRubberRatioand'Катуу-Core'Түзүмү

Өндүрүш MQ силикондорун негизги жабыштыруучу жана бекемдөөчү агент катары кабыл алып, MQ/gumratioto1.2:1–2:1ди жогорулатат (кадимки класстарга караганда бир кыйла жогору). катуу 'катуу фазалык'микродомендердин баш катмарынын ичинде, алар силоксан чынжыр сегменттеринин кыймылын чектеп, сактоо модулун жана жогорулатылган температураларды олуттуу жакшыртат.

2.Жылуулукка туруктуу Катуу Топтордун жана Жогорку Байланыш Энергиясын Кайчылаш Сайттарды кошуу

Фенил, дифенил же карборан топтору полидиметилсилоксан омурткасына (мисалы, 20–30 моль% фенил мазмуну) термалдык чынжырдын кыймылына тоскоол болуу үчүн киргизилет жана айнек өтүү температурасын да жогорулатат rmaldecompositiontemperature. Кайчылаш байланыш системасы артыкчылыктуу иштешеткошумча-айыктыруу гидросилиляциясы(Pt-катализатор), түзүү–C–C–же–Si–C–кайчылаш байланыш көпүрөлөрү менен жогорку жылуулук туруктуулугу.

3.Crosslinks(Mc)жана Тармак кемчиликтеринин ортосундагы Молекулярдык Салмакты көзөмөлдөө

Активдүү суутек мазмунун жана суутек камтыган силикон майынын чынжырынын узундугун так тууралоо менен, салыштырмалуу кичине бир тектүү Mc (болжол менен 5,000–15,000 г/моль) жетишилет, бул жумуш катуу температурада да жогорку ийкемдүүлүктү сактайт. Кеңейтилген айыктыруудан кийинки же жогорку температурадагы күйгүзүү керектөөчү калдык реактивдүү топторго колдонулат жана тармактын кемчиликтеринен келип чыккан стресс-эс алууну азайтат.

II.Градиент модулу Көп кабаттуу жабышчаак структурасы – баланстоо

'Праймер-анкердик катмар+Жогорку модулдук бирдик катмары+Илешкектүү функционалдуу катмар'үч катмарлуу дизайн

1.Primer-anchoringlayer (1–3μm): Epoxyoracryloyloxygroups камтыган silancouplingagegent, MQresin менен алдын ала полимерленген, PTFEsubstrate жана co-crosslinking менен жогорку силикон катмарын камсыз кылуу.

2.High-moduluscohesivelayer(mainbody, approx.30-50μm): Useshigh-MQ-катышы,жогорку-фенил-мазмуну,жогорку кайчылаш-тығыздыксиликонадгезивтоfurnisharobustshear туруктуу скелет.

3.Viscoelastic functionallayer (incontactwiththheadherend, 3-8μm): Employslow-MQ-катышы же гидрокси-терминацияланган силикон-майы-модификацияланган жумшак силикон чаптама томонку беттик модулусандан тез нымдоону жана баштын башына ылайыктуулугун камсыз кылат.

III.Физикалык кайчылаш жана ысыкка туруктуу скелетти куруу үчүн нанотолтургучтар

1.Нано кремний диоксидинин in-situ бекемдөө жана беттик модификациясы

Өндүрүш винилтриэтоксисилан же гексаметилдисилазан менен иштетилген кремний диоксиди (өзгөчөлүк 200–380 м²/г), 10–25 массасынын% жүктөө менен иштетилет. Энергияны кетирүүчү жана молекулярдык чынжырлардын тайгалануусун алдын алган кайчылаш физикалык кайчылаш тармак. Жогорку кесилген дисперсия кремнеземдин өлчөмү 100 нмден төмөн болгон агломералуу 'кластерлер' болушун камсыздайт, стресс концентрациясын болтурбайт.

2.DirectionalCreepResistancevia2DNanomaterials

1–5wt% бир нече катмарлуу графеноргано-модификацияланган нано-монтмориллониттин кошумчасы, алар каптоо учурундагы катмарларды иреттөө аркылуу кесүү-индукцияланган тегиздөө, форманын лентага параллелдүү 'мазеэффект' формасы лента, үзгүлтүккө учуратуудагы молекулярдык чынжыр кыймылына каршылыкты бир кыйла жогорулатат.

IV. Химиялык интеграцияланган субстрат – жабышчаак интерфейс жана процессти башкаруу

1.SurfaceActivation and Bifunctional Primer for Chemical Bonding

PTFE бети алгач натрий-нафталин-THF эритмеси же төмөнкү басымдагы аргон/кычкылтек плазмасы менен иштетилген карбоксил-гидроксил топторун камтыган активдештирилген катмарды жаратат. Алгачкы эритмеде эки функционалдуу молекулалар бар (мисалы, изоцианасилан, титанат-кычкылдануучу ортомчу) Праймердин бири PTFE бетинде–OH/–COOH менен реакцияга кирет, ал эми экинчиси гидросилиляцияга же конденсацияга катышат. иконка жабышчаак, интерфейске кирген химиялык байланыш тармагын түзүүчү. Бул ыкма жогорку температураны (260°C) 3–5 эсеге көтөрөт.

2.Кемчиликтерди жоюу үчүн Ramped Curing and Post-Treatment

Аралык катуу айыктыруу профили колдонулат: биринчи, эриткичтер 80–100°C деӊгээлинде чачылат жана башына чейин куюлат; андан кийин 150–170°C деӊгээлинде гидросилиляция жана тыгыз таңгактоо аяктайт; акырында, кийинки -ички стрессти жок кылуу жана физикалык кайчылаш байланыш чекиттерин турукташтыруу үчүн 200–220°Cде бир нече саатка айыктырып турат. Жай муздатуу дифференциалдык термикалык кичирейүүнүн микрокрекингинин алдын алат.

Жогорудагы маалымат тарабынан берилгенJiangsuAokaiNewMaterialTechnologyCo.,Ltd.

Эгерде сиз продуктулардын бардык спектри жөнүндө терең билим алгыңыз келсе, анын ичинде тефлон жогорку температурадагы кездеме, тефлон жогорку температуралуу лента, тефлон жогорку температурадагы тор кайыш, бириктирүүчү машиналар үчүн тигишсиз конвейер тилкелери, бир жактуу PTFE кездеме, жогорку температурага чыдамдуу конвейер тасмалары, жогорку температурага чыдамдуу айнек була кездеме жана башкалар – деталдуу спецификациялар, колдонуу сценарийлери жана ыңгайлаштыруу чечимдери менен бирге төмөнкү каналдар аркылуу байланышыңыз:

Ыкчам байланыш телефону:

Mr.Guo:+86 18944819998

Mr.Liu:+86 13705266308

Биз профессионалдык жана ак ниеттүүлүккө негизделген кызмат философиясын ырааттуу түрдө колдойбуз жана сизге токтоосуз чечимдерди жана кылдаттык менен кызмат көрсөтүүгө арналганбыз!