এই প্ৰবন্ধটোৱে উচ্চ উষ্ণতাৰ পিটিএফই টেপৰ বাবে অৰ্গেন'চিলিকন আঠাই লক্ষ্য নিৰাময় ডিগ্ৰী পোৱাটো নিশ্চিত কৰিবলৈ আৱৰণ মেচিনৰ লাইনৰ গতি আৰু অভেনৰ দৈৰ্ঘ্য কেনেকৈ মিলাই দিব লাগে সেই বিষয়ে আলোচনা কৰে। মূল মিলন নীতি: মুঠ বাসকাল t_total = ফলপ্ৰসূ অভেনৰ দৈৰ্ঘ্য L ÷ লাইনৰ গতি v নূন্যতম প্ৰয়োজনীয় নিৰাময় সময়ৰ তুলনাত কম হ'ব নালাগে। 'উষ্ণতা — নূন্যতম নিৰাময় সময়' সম্পৰ্ক স্থাপন কৰি DSC বা আঠাযুক্ত নিৰাময় পৰীক্ষাৰ জৰিয়তে নিৰাময়ৰ বৈশিষ্ট্য লাভ কৰক। সমতুল্য ক্ৰমবৰ্ধমান নিৰাময়ৰ আৰ্হি: অভেনক জ'নত ভাগ কৰক, ti=Li/v আৰু tcure(Ti) গণনা কৰক, ∑(ti/tcure(Ti)) ≥1 নিশ্চিত কৰক। গণনা পদ্ধতি: দৈৰ্ঘ্য Li আৰু উষ্ণতা Ti ৰ সৈতে উষ্ণতাৰ অঞ্চল নিৰ্ধাৰণ কৰক; লাইনৰ গতি v নিৰ্ধাৰণ কৰক, প্ৰতিটো জ'নৰ বাসকাল আৰু অৱদান অনুপাত গণনা কৰক; মুঠ ≥1 লৈকে পুনৰাবৃত্তি কৰক (সুৰক্ষাৰ মাৰ্জিন ১.১-১.২ পৰামৰ্শ দিয়া হৈছে)।

এই লেখাটোত পিটিএফইৰ গঠন আৰু ধৰ্মৰ ওপৰত গামা-ৰশ্মিৰ বিকিৰণৰ প্ৰভাৱৰ বিষয়ে আলোচনা কৰা হৈছে। ৰাসায়নিক গঠনৰ পৰিৱৰ্তন: গামা ৰশ্মিয়ে চিচি মূল শৃংখল আৰু চিএফ কাষৰ শৃংখল ভাঙি পেলায় (জি-মান ৩.০-৩.৫), যাৰ ফলত শৃংখলৰ বৃহৎ বিভাজন আৰু আণৱিক ওজন ভয়ংকৰভাৱে হ্ৰাস পায়; অক্সিজেনত মুক্ত মূলকসমূহে এচিল ফ্ল'ৰাইড আৰু কাৰ্বক্সিলিক এচিডৰ শেষ গোট (HF লৈ হাইড্ৰ'লাইজিং) প্ৰৱৰ্তন কৰি পেৰাক্সি মূলক গঠন কৰে। ঘনীভূত গঠন সলনি হয়: স্ফটিকীয়তা প্ৰথম অৱস্থাত বৃদ্ধি পায় (কম মাত্ৰা, চুটি শৃংখল পুনৰ সাজি যায়) তাৰ পিছত কমি যায় (উচ্চ মাত্ৰা, দোষে স্ফটিক বিঘ্নিত কৰে); লেমেলাৰ স্ফটিকবোৰ দীৰ্ঘ দূৰত্বৰ ক্ৰমত নোহোৱা হৈ যোৱা সৰু সৰু স্ফটিকলৈ পৰিণত হয়। ধৰ্মৰ অৱক্ষয়: ব্ৰেকৰ সময়ত প্ৰসাৰণ বায়ুত ০.১ কিলোগ্ৰামৰ পৰা হ্ৰাস পায়, ~১ কিলোগ্ৰামত >৯০% হেৰুৱাই — পদাৰ্থ কঠিন আৰু ভংগুৰ হৈ পৰে; গলনাংক ৩২৭ ডিগ্ৰী চেলছিয়াছৰ পৰা ৩১০ ডিগ্ৰী চেলছিয়াছৰ তললৈ নামি যায়; মেৰু গোটবোৰে ডাইলেক্ট্ৰিক ধ্ৰুৱক/ক্ষতি সামান্য বৃদ্ধি কৰে; পৃষ্ঠভাগ বগাৰ পৰা ধূসৰ/ক'লালৈ সলনি হয় আৰু গ্লছ হেৰুৱাই পেলায়।

এই লেখাটোত লিথিয়াম বেটাৰী ইলেক্ট্ৰ'ড শুকুৱাই লোৱাত টেফ্লন উচ্চ উষ্ণতাৰ কাপোৰৰ প্ৰয়োগৰ সুবিধাসমূহ আলোচনা কৰা হৈছে। কনভেয়ৰ বেল্ট বা অভেন লাইনাৰ হিচাপে ব্যৱহাৰ কৰা হয়, তিনিটা মূল সমস্যা সমাধান কৰা হয়: স্লাৰী আঠাযুক্ত, জাৰণ, আৰু ইলেক্ট্ৰ'ড স্ক্ৰেচিং। চাৰিটা সুবিধাজনক ক্ষেত্ৰ: ইলেক্ট্ৰ'ডৰ গুণগত মান আৰু উৎপাদন — এন্টি-ষ্টিক বৈশিষ্ট্যই পিভিডিএফ বাইণ্ডাৰৰ আঠাযুক্ত হোৱাত বাধা দিয়ে যাৰ ফলত সহজে সম্পূৰ্ণ খোলা উলিয়াব পৰা যায়; ১০০-১৪০ ডিগ্ৰী চেলছিয়াছত একেধৰণৰ তাপ পৰিবাহীতাই ফাটি যোৱা/জ্বলোৱা ৰোধ কৰে; মসৃণ পৃষ্ঠই আঁচোৰ আৰু গুড়ি ছিঙি যোৱাটো নাইকিয়া কৰে; স্থায়িত্ব আৰু কাৰ্য্যকৰী স্থিৰতা — ফুলা/বয়সায়ন নোহোৱাকৈ এনএমপি দ্রাৱক আৰু ইলেক্ট্ৰ'লাইট বাষ্পৰ বিৰুদ্ধে ৰাসায়নিক প্ৰতিৰোধ ক্ষমতা; নিখুঁত অৱস্থানৰ বাবে ফাইবাৰগ্লাছ ছাবষ্ট্ৰেটৰ পৰা উচ্চ টান শক্তি আৰু মাত্ৰিক স্থিৰতা; ধাতুৰ জাল বেল্টৰ তুলনাত নূন্যতম অৱশিষ্টৰ সৈতে সহজ পৰিষ্কাৰ কৰা।

এই লেখাটোত টেফ্লন উচ্চ উষ্ণতাৰ কাপোৰৰ ডিলেমিনেচন পৰিঘটনাটো আলোচনা কৰা হৈছে। ডিলেমিনেচনে পৃষ্ঠৰ পিটিএফই আৱৰণ আৰু অভ্যন্তৰীণ ফাইবাৰগ্লাছ ভিত্তি কাপোৰৰ মাজত বা একাধিক আৱৰণ স্তৰৰ মাজত পৃথকীকৰণ আৰু খোলাক বুজায়। দৃশ্যমান প্ৰকাশ: প্ৰাৰম্ভিক লক্ষণ হিচাপে ফোহা/উখহি উঠা (ফুটা অনুভৱৰ সৈতে উঠা বুদবুদ); বগা ফাইবাৰগ্লাছ উন্মুক্ত কৰা শ্বীটত সহজে আঁতৰোৱা আৱৰণৰ সৈতে আন্তঃস্তৰৰ খোলা; স্থানীয়ভাৱে বগা কৰা আৰু তাৰ পিছত তাপ/ঘৰ্ষণৰ পিছত ফ্লেকিং কৰা হয়। মূল কাৰণসমূহ: তাপীয় চাপৰ ক্ষতি — পিটিএফই আৰু ফাইবাৰগ্লাছৰ মাজত তাপীয় প্ৰসাৰণ সহগসমূহৰ ভিন্নতাই আভ্যন্তৰীণ চাপৰ সৃষ্টি কৰে, দ্ৰুত উত্তাপ/শীতল চক্ৰই বিচ্ছিন্নতাৰ সৃষ্টি কৰে; উৎপাদনৰ মানদণ্ডৰ দোষ — অপৰ্যাপ্ত ফাইবাৰগ্লাছ পৃষ্ঠ চিকিৎসা, দুৰ্বল পিটিএফই শোষণ, অপৰ্যাপ্ত চিণ্টাৰিং যাৰ ফলত দুৰ্বল আন্তঃপৃষ্ঠীয় বন্ধন।

এই লেখাটোত বয়স বৃদ্ধিৰ সময়ত পিটিএফই উচ্চ উষ্ণতাৰ কাপোৰৰ গাঁথনিগত পৰিৱৰ্তন পৰীক্ষা কৰা হৈছে। চাৰিটা দিশ: পিটিএফই আৱৰণৰ অণুগাঁথনি — আণৱিক শৃংখলৰ বিভাজন আৰু অক্সিডেচন (কাৰ্বনাইল/কাৰ্বক্সিল গোট গঠন), স্ফটিকীয়তাৰ পৰিৱৰ্তন (আগতীয়াকৈ উত্থান তাৰ পিছত পতন), অণু-ফাট আৰু পিনহ'ল গঠন, পৃষ্ঠৰ গুড়ি; গ্লাছ ফাইবাৰৰ ছাবষ্ট্ৰেট আৰু আন্তঃপৃষ্ঠ — আকাৰ/কাপলিং এজেণ্টৰ বিয়োগ যাৰ ফলত বণ্ডিং হেৰুৱা, আন্তঃপৃষ্ঠৰ ডিবণ্ডিং আৰু ডিলেমিনেচন (ফোহা, বগা অঞ্চল), গ্লাছ ফাইবাৰ নেটৱৰ্ক খহনীয়া আৰু ভংগুৰতা, ক্ষাৰকীয় ধাতুৰ অক্সাইডৰ বৰষুণৰ ফলত চাপৰ জাৰণ; মেক্ৰস্কোপিক গঠন আৰু ৰূপ — ৰঙৰ পৰিৱৰ্তন (বগা→বীজ→বাদামী→ক'লা), সংকোচন বিকৃতি আৰু কাৰ্লিং, পৃষ্ঠ ৰুক্ষ আৰু গ্লছ হেৰুৱা, স্পৰ্শ কৰিলে পাউদাৰিং, নমনীয়তা সম্পূৰ্ণৰূপে হেৰুৱা। বয়স বৃদ্ধিৰ সাৰ: 'আৱৰণৰ অৱক্ষয় → আন্তঃপৃষ্ঠ বিফলতা → ছাবষ্ট্ৰেটৰ অৱক্ষয়।' ৰ প্ৰগতিশীল প্ৰক্ৰিয়া।

এই প্ৰবন্ধটোত উচ্চ উষ্ণতাৰ বয়স বৃদ্ধিৰ পিছত পিটিএফই উচ্চ উষ্ণতাৰ টেপ আঠাযুক্ত স্তৰৰ সংহতি শক্তিৰ পৰিৱৰ্তনৰ আৰ্হি বৰ্ণনা কৰা হৈছে। তিনিটা পৰ্যায়ৰ আৰ্হি: নিৰাময়ৰ পিছৰ বৃদ্ধি পোৱা পৰ্যায় (২০০-২৬০ ডিগ্ৰী চেলছিয়াছত প্ৰাৰম্ভিক উচ্চ উষ্ণতাৰ সংস্পৰ্শ, অৱশিষ্ট প্ৰতিক্ৰিয়াশীল গোটসমূহে ক্ৰছলিংকিং অব্যাহত থাকে, সংহতি যথেষ্ট বৃদ্ধি পায়); সুস্থিৰ ভাৰসাম্য পৰ্যায় (ক্ৰছলিংকিঙে সম্পূৰ্ণ হোৱাৰ কাষ চাপে, সংহতি দীৰ্ঘ সময়ৰ বাবে সুস্থিৰ হৈ থাকে); অৱক্ষয় আৰু অৱনতিৰ পৰ্যায় (অত্যধিক সময়/উষ্ণতাৰ ফলত মূল শৃংখলৰ অৱক্ষয় হয়, সংহতি হ্ৰাস পায়, আঠা কোমল হয় আৰু আঠাযুক্ত হৈ পৰে)। সংহত বিফলতাৰ মূল কাৰণ (আভ্যন্তৰীণ ফাটি যোৱা অৱশিষ্ট) আৰু চেপি-আউট (মডুলাছ হ্ৰাস পোৱাৰ বাবে প্ৰান্তৰ পৰা ঠাণ্ডা প্ৰবাহ) বিশ্লেষণ কৰা হয়।

এই লেখাটোত সৌৰশক্তি উদ্যোগত টেফ্লন উচ্চ উষ্ণতাৰ কাপোৰৰ প্ৰয়োগৰ বিষয়ে বিতংভাৱে উল্লেখ কৰা হৈছে। মডিউল লেমিনেচনত মূল প্ৰয়োগ: পিভি মডিউলৰ ওপৰত/তলত ৰখা ৰিলিজ ফেব্ৰিক গলিত ইভিএ (১৪০-১৫০ ডিগ্ৰী চেলছিয়াছ)ক হিটিং প্লেটেন বা ৰবৰ প্লেটৰ সৈতে আঠাযুক্ত হোৱাত বাধা দিয়ে, সঁজুলিক সুৰক্ষা দিয়ে আৰু মসৃণ মডিউলৰ পৃষ্ঠ নিশ্চিত কৰে; স্বয়ংক্ৰিয় লোডিং/আনলোডিঙৰ বাবে লেমিনেটৰ কনভেয়ৰ বেল্ট; ৰবৰ প্লেটেন সুৰক্ষামূলক কাপোৰে সেৱা জীৱন বৃদ্ধি কৰে। চেল ষ্ট্ৰিংগাৰ ছল্ডাৰিং: হিটিং জ'নৰ মাজেৰে কোষ আৰু ফিতা কঢ়িয়াই নিয়া কনভেয়ৰ বেল্ট, নন-ষ্টিক পৃষ্ঠত ফ্লাক্স আৰু ছল্ডাৰৰ ছিটিকনি প্ৰতিৰোধ কৰা; ছল্ডাৰিং ৱৰ্কষ্টেচনৰ বাবে হিটিং প্লেটফৰ্ম কুশ্বন। উচ্চ উষ্ণতাৰ ইনচুলেচন: হিটিং টিউব, থাৰ্মোকাপল, লেমিনেটৰ আৰু কিউৰিং অভেনত থকা কেবলৰ বাবে ৰেপিং; সঁজুলিৰ তাপ নিৰোধক পৰ্দা আৰু ঢাল।

এই প্ৰবন্ধটোৱে পিটিএফই ইমালচন ইম্প্ৰিগনেশ্যনৰ পূৰ্বে ফাইবাৰগ্লাছ কাপোৰৰ বাবে প্ৰয়োজনীয় প্ৰিট্ৰিটমেণ্ট পদক্ষেপসমূহ সামৰি লৈছে। স্তৰ ১: ৩০০-৪৫০ ডিগ্ৰী চেলছিয়াছত তাপ পৰিশোধন/ডিৱাক্সিং কৰি আঁহৰ পৃষ্ঠৰ পৰা পেৰাফিন মোম আৰু তেল সম্পূৰ্ণৰূপে আঁতৰাই পেলাবলৈ (পেৰাফিন মোম, ষ্টাৰচ ডেৰাইভেটিভ), অৱশিষ্ট আকাৰৰ পৰিমাণ ০.২% তকৈ কম প্ৰয়োজনীয়, 'তাপ-ডিৱাক্স কৰা কাপোৰ।' উৎপন্ন কৰা। KH-560, A-174) আঁহৰ পৃষ্ঠত ৰাসায়নিক বণ্ডিং ফিল্ম গঠন কৰিবলৈ, অজৈৱ কাঁচৰ আঁহ আৰু জৈৱিক পিটিএফইৰ মাজত আণৱিক দলং সক্ষম কৰি; বাণিজ্যিকভাৱে উপলব্ধ পূৰ্ব-চিকিৎসা কৰা কাপোৰে এই পদক্ষেপ এৰিব পাৰে কিন্তু পৰীক্ষা কৰিব লাগিব। ৩য় পদক্ষেপ: শুকুৱাই লোৱা আৰু আগতে গৰম কৰা — ৮০-১২০ ডিগ্ৰী চেলছিয়াছত ১-২ ঘণ্টা শুকুৱাই লোৱা যাতে আৰ্দ্ৰতা ০.১% তকৈ কম হয়, যাতে কুয়াৰিঙৰ সময়ত বুদবুদ/শূন্যতা গঠন হোৱাত বাধা দিয়ে।

এই প্ৰবন্ধটোত হাই-হল্ড টেফ্লন উচ্চ উষ্ণতাৰ টেপৰ ক্ৰিপ ৰেজিষ্টেন্স আৰু দীৰ্ঘম্যাদী ধৰি ৰখাৰ স্থিৰতা উন্নত কৰাৰ পদ্ধতিসমূহ উপস্থাপন কৰা হৈছে। কৌশলসমূহৰ ভিতৰত আছে: আণৱিক নেটৱৰ্ক টপোলজি অনুকূলন — উচ্চ MQ চিলিকন ৰেজিন/গাম অনুপাত (1.2:1–2:1) কঠিন হাৰ্ড-ফেজ ডমেইন গঠন কৰে; ফেনাইল গোট (২০-৩০ মোল%) অন্তৰ্ভুক্ত কৰিলে শৃংখলৰ গতিত বাধাৰ সৃষ্টি হয়; ক্ৰছলিংক আণৱিক ওজন ৫,০০০-১৫,০০০ গ্ৰাম/মল নিয়ন্ত্ৰিত; গ্ৰেডিয়েণ্ট মডুলাছ বহুস্তৰীয় আঠাযুক্ত গঠন — চাইলেন কাপলিং এজেণ্টৰ সৈতে প্ৰাইমাৰ-এংকৰিং স্তৰ (১-৩μm), ছিয়াৰ-প্ৰতিৰোধী কংকাল হিচাপে হাই-মডুলাছ সংহত স্তৰ (৩০-৫০μm), পৃষ্ঠ তিয়াই দিয়াৰ বাবে ভিস্কোইলাষ্টিক কাৰ্য্যকৰী স্তৰ (৩-৮μm); নেন'ফিলাৰ — পৃষ্ঠ পৰিৱৰ্তনৰ সৈতে ধোঁৱা দিয়া চিলিকাই (১০-২৫ wt%) উলটিব পৰা ভৌতিক ক্ৰছলিংকিং সৃষ্টি কৰে।

এই লেখাটোত টেফ্লন উচ্চ উষ্ণতাৰ কাপোৰত ফাইবাৰগ্লাছ কাপোৰৰ ছাবষ্ট্ৰেটৰ সৈতে পিটিএফই আৱৰণ কেনেকৈ বান্ধ খায় সেই বিষয়ে ব্যাখ্যা কৰা হৈছে। পিটিএফইৰ অতি কম পৃষ্ঠ শক্তিৰ বাবে প্ৰত্যক্ষ ৰাসায়নিক বন্ধন অসম্ভৱ। বণ্ডিং কৰা হয়: যান্ত্ৰিক আন্তঃসংলগ্ন (ভৌতিক বণ্ডিং) — পিটিএফই ইমালচনে আঁহৰ ফাঁকত সোমাই চিণ্টাৰ কৰাৰ পিছত আঁহৰ বাণ্ডিল ধৰি ৰাখে; চাইলেন কাপলিং এজেণ্ট প্ৰিট্ৰিটমেণ্ট — অজৈৱিক কাঁচৰ আঁহ আৰু জৈৱিক প্ৰাইমাৰৰ মাজত আণৱিক দলং গঠন কৰে; ৰাসায়নিক প্ৰাইমাৰ পৰিৱৰ্তন স্তৰ — পিটিএফই মাইক্ৰ'পাউডাৰৰ সৈতে PAI, PPS, PES বা PEEK ৰেজিন ব্যৱহাৰ কৰি, শক্তিশালী পৰিৱৰ্তন স্তৰ সৃষ্টি কৰিবলৈ কাপলিং ট্ৰিটমেণ্টৰ পিছত প্ৰয়োগ কৰা হয়; গৰম-গলিত আঠাযুক্ত ফিল্ম লেমিনেচন — এফইপি বা পিএফএ ফিল্ম (গলনাংক ২৬০-৩১০ ডিগ্ৰী চেলছিয়াছ) পূৰ্ব-গঠিত পিটিএফই ফিল্মক কাপোৰৰ সৈতে বান্ধি ৰাখে; গ্ৰেডিয়েণ্ট গঠন একাধিক ইম্প্ৰিগনেচন আৰু চিণ্টাৰিং চক্ৰৰ জৰিয়তে — বাইণ্ডাৰ/কাপলিং এজেণ্টৰ সৈতে পাতল প্ৰথম পাছ আঁহৰ গভীৰতালৈ সোমাই যায়, তাৰ পিছত বিশুদ্ধ পিটিএফই ইম্প্ৰিগনেশ্যনে, ফাইবাৰগ্লাছৰ পৰা বিশুদ্ধ পিটিএফইলৈ গঠনমূলক গ্ৰেডিয়েণ্ট সৃষ্টি কৰে।